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              新能源汽車燈杯注塑鍍膜報價服務至上,錦城鍍膜公司

              發布時間:2020-07-23 21:44  

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              鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響 :

              偏壓:偏壓施加于工件上,在輝光清洗時工件(陰極)與爐體之間產生輝光放電,部分氣被電子離化產生離子,離子(帶正電)在負偏壓作用下受工件吸引轟擊清洗工件表面,偏壓越大,對工件的轟擊凈化越干凈,但同時工件本身的溫升也越大,特別是尖角位棱角位置;在離子轟擊中用于加速離子,提高離子轟擊工件表面的能量,去除表面氧化層和吸附物,達到提高膜層結合力的作用。鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響:輝光清洗:對工件施加負偏壓,產生輝光放電,利用ya離子轟擊工件表面,這種輝光放電清洗作用比較柔和,一般采取由弱到強的轟擊清洗順序,是怕工件太臟時一開始就強轟擊,可能產生強烈的打火而損傷工件。

              靶基距:靶基距是影響成膜速率的重要因素之一,隨著靶基距增加,被濺射材料射向基片時與氣體分子碰撞的次數增多,同時等離子體密度也減弱,動能減少,沉積速率降低,但膜層外觀較好。靶基距太小,沉積太快,工件溫升大,膜層外觀差。

              鍍膜原理

              陰極真空磁控濺射的特點:膜層厚度均勻、鍍膜速度快、基板溫度低。濺射鍍膜利用2個原理:輝光放電、連續撞擊。濺射過程是建立在氣體放電基礎上的,放電從低壓下開始的,氣體離子與靶材相互作用,離子不斷的撞擊靶表面,靶材從靶表面被轟擊下來然后在靶附近的基片(玻璃)上沉積下來,凝結成一層薄膜。鍍膜基片鍍膜基片有:浮法原片、切磨玻璃、鋼化玻璃、彩釉玻璃、夾層玻璃等。



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