南山小型氣相沉積設備推薦「拉奇納米」

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。真空鍍膜設備若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質量。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術、材料需求都在不斷增加，包括制造大規模集成電路的電學膜。真空鍍膜設備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術。由于真空熱處理時，工件基本不氧化，鋼件不脫碳，采用通氣對流加熱方式還可使加熱均勻，減少表面和心部的溫差，從而也減少畸變。目前它已成為工模具不可或缺和的熱處理工藝。

  在真空條件下加熱工件，主要依賴輻射。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢

真空鍍膜設備膜層表面有水跡、指紋及灰粒：(1)鍍件清洗后未充分干燥。應加強鍍前處理。(2)鍍件表面濺上水珠或唾液。國內外研究人員一直致力于開發取代電鍍的表面防護技術的研究,物理氣相沉積(PVD)技術作為一種環境友好技術,具有很多其他技術所不具備的特點,通過控制其工藝參數可以得到晶粒細小、厚度均勻、膜基結合力優異的鍍層。應加強文明生產，操作者應帶口罩。(3)涂底漆后手接觸過鍍件，表面留下指紋。應嚴禁用手接觸鍍件表面。(4)涂料中有顆粒物。應過濾涂料或更換涂料。(5)靜電除塵失效或噴涂和固化環境中有顆?；覊m。應更換除塵器，并保持工作環境的清潔。

真空鍍膜設備膜層附著力不良：(1)鍍件除油脫脂不干凈。應加強鍍前處理。(2)真空室內不清潔。應清洗真空室。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢。值得注意的是，在裝靶和拆靶的過程中，嚴禁用手或不干凈的物體與磁控源接觸，以保證磁控源具有較高的清潔度，這是提高膜層結合力的重要措施之一。(3)夾具不清潔。應清洗夾具。(4)底涂料選用不當。應更換涂料。(5)濺射工藝條件控制不當。應改進濺射工藝條件。