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鍍膜技術在光學儀器中的應用

      人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

   

1. 真空

在空間內，低于環境大氣壓力的氣體狀態。

2. 真空度

表示真空狀態下氣體的稀薄程度，通常用壓力值來表示。

3. 真空區域劃分

低真空 105Pa-102Pa

中真空 102Pa-10-1Pa

高真空 10-1Pa-10-5Pa

超高真空 10-5Pa-10-9Pa

極高真空 <10-9Pa

4. 全壓力

混合氣體中所有組分壓力的綜合。

真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類。

真空鍍膜設備是蒸發式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

該設備具有：結構合理，膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作同期短、生產、操作方便，能耗低性能穩定等優點。有機高分子鍍膜設備價格

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的真空蒸發鍍、濺射鍍膜和離子鍍等鍍膜技術。如今鍍膜技術及薄膜產品在工業上的應用非常廣泛，尤其是在電子材料與元器件工業領域中占有及其重要的地位。

如今隨著鍍膜技術的快速增長，各種類型的真空鍍膜機也開始隨之出現。所謂真空鍍膜設備工藝就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

真空鍍膜設備膜層附著力不良：(1)鍍件除油脫脂不干凈。應加強鍍前處理。同時由于PVD是一種干法鍍技術,可以避免濕法鍍時酸性或堿性電解質溶液殘留在磁體孔隙內和電鍍過程中磁體吸氫而導致鍍層脆裂的缺點。(2)真空室內不清潔。應清洗真空室。值得注意的是，在裝靶和拆靶的過程中，嚴禁用手或不干凈的物體與磁控源接觸，以保證磁控源具有較高的清潔度，這是提高膜層結合力的重要措施之一。(3)夾具不清潔。應清洗夾具。(4)底涂料選用不當。應更換涂料。(5)濺射工藝條件控制不當。應改進濺射工藝條件。