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相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產溫度范圍為35—45%。1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設備的生產，和一些食品飲料的生產。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

地面可采用環氧自流坪地坪或耐磨塑料地板，有防靜電要求的，要選用防靜電型。送回風管道一般用鍍鋅鋼板，不宜選用玻璃棉類材料保溫。照明應選用凈化車間燈具。而隨著凈化技術的發展，建設凈化車間的技術含量也越來越高，非專業人士不能也。除了在生產領域，凈化工程技術還會逐漸應用于家庭、公共場合，為人們提供更潔凈的生活空間1級：塵埃易使芯片失效或者穩定性下降，當金屬塵埃落于集成電路上時，就可能造成短路。當空氣中的酸性離子落在電路上時，可能將電路腐蝕，因此凈化空調系統對微電子工業而言至關重要。此外，液晶、光纖的生產也需要1級潔凈度的要求。

1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設備的生產，和一些食品飲料的生產。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。凈化工程的一般施工程序：粉塵作業，無塵作業后，不允許交叉作業。 否則會影響項目的質量。 也就是說，在完成所有粉塵產生操作之后，可以進行無塵操作。濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。

壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。在實際施工中，凈化項目通常分為專業，分工和分時。 這種安排有利于各種專業和工作類型的管理。 但是，易于進行多塵和無塵的交叉操作，應盡可能避免這種結構布置。 如果不可避免，應該防止灰塵和有效清潔。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產溫度范圍為35—45%。