舟山制版廠家服務至上

公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

蝕刻工藝通常稱為版

刻蝕（Etch）是按照掩模圖形或設計要求對半導體襯底表面或表面覆蓋薄膜進行選擇性刻蝕的技術，它是半導體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻相聯系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝。刻蝕分為干法刻蝕和濕法腐蝕。原位芯片目前掌握多種刻蝕工藝，并會根據客戶的需求，設計刻蝕效果好且性價比高的刻蝕解決方案。集成電路（英語：integratedcircuit，縮寫：IC。

數字圖像處理中，圖像掩模主要用于：①提取感興趣區,用預先制作的感興趣區掩模與待處理圖像相乘,得到感興趣區圖像,感興趣區內圖像值保持不變,而區外圖像值都為0。②屏蔽作用,用掩模對圖像上某些區域作屏蔽,使其不參加處理或不參加處理參數的計算,或僅對屏蔽區作處理或統計。③結構特征提取,用相似性變量或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似的結構特征。④特殊形狀圖像的制作。缺點：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產，供貨周期長。

硬刮和軟刮：凹版印刷中的不同裝法在印刷中所產生的效果是不樣的。硬刮是指離支撐刀片較短，效果反差大，易磨損版輥，對解決版面不干凈會有一點作用。軟刮是指離支撐刀片距離較長點，效果是色調平緩，易產生灰霧。對于版上淺網部分的轉移會有1定的幫助。

掩膜（MASK）就是指單片機設計掩膜就是指程序流程統計數據早已制成光刻版，在單片機設計生產制造的全過程中把程序流程做進來。優勢是：程序流程靠譜、低成本。缺陷：大批量規定大，每一次改動程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產制造，交貨期長。掩膜板是光刻圖形的基準和藍本，掩膜板上:的任何缺陷都會對終圖形精度產生嚴重的影響。 

選定的圖像、圖形或對象用于阻擋已處理的圖像(全部或部分)，以控制圖像處理區域或過程。用于覆蓋的特定圖像或對象稱為遮罩或模板。在光學圖像處理中，掩模可以是薄膜、濾光器等。在數字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時也使用多值圖像。