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UV紫外線法是運用特別制作的較高能高活性氧UV紫外光光線直射廢氣，更改廢氣的分子式，使有機化學(xué)或無機物高分子材料廢氣化學(xué)物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)鏈在較高能紫外光光線直射下，溶解轉(zhuǎn)換成低分子結(jié)構(gòu)化學(xué)物質(zhì)的方式 。

優(yōu)點：占地小，運作成本費較低，機器設(shè)備項目投資較低。

缺點：除去低，可解決的汽體類型較少。印刷voc廢氣治理

微生物滴濾法是將廢氣歷經(jīng)去塵加濕或減溫等預(yù)備處理加工工藝后，從氧化塔底端從下向上越過由過濾材料構(gòu)成的氧化塔，廢氣由液相遷移至水—微生物混和相，根據(jù)接觸抑制于過濾材料上的微生物代謝作用而被溶掉的一種方式 。

優(yōu)點：解決花費低，生產(chǎn)流程簡易，生態(tài)保護。

缺點：占地大，填充料需按時拆換，全過程不易控制，運作一段時間后非常容易發(fā)生難題，對疏水性和難降解化學(xué)物質(zhì)的解決還存有很大難度系數(shù)。印刷voc廢氣治理

工業(yè)化生產(chǎn)全過程中發(fā)生的污染粉塵即是顆粒性廢氣，化工廠、工業(yè)生產(chǎn)原材料生產(chǎn)廠家、制藥廠等全是顆粒物性廢氣的發(fā)生根源。工業(yè)化生產(chǎn)全過程中，這種公司必須純化原材料，而原材料帶有較多的殘渣，沒法完全點燃、溶解物，造成發(fā)生了粉塵形狀的廢氣，對空氣指數(shù)導(dǎo)致嚴重威脅。印刷voc廢氣治理

汽態(tài)性廢氣是工業(yè)化生產(chǎn)全過程中必定造成的污染物，具備多種多樣的類型和較大的不良影響。現(xiàn)階段，能夠?qū)⑵麘B(tài)性廢氣區(qū)劃為這種種類：，中氮廢氣。本種廢氣會受到破壞到氣體成分，對汽體組成占比導(dǎo)致更改。工業(yè)化生產(chǎn)全過程中必須點燃很多的石油產(chǎn)品，而石油產(chǎn)品則帶有較多的氮化合物，那樣便會有氮氧化合物產(chǎn)生于廢氣中，造成空氣中的氮氧化合物成分增加，傷害到環(huán)境空氣。印刷voc廢氣治理

半水基清洗劑綜合性了清洗劑和水基清洗劑的清洗原理，也是由于成份復(fù)雜的原因，促使半水基清洗劑的可靠性是三者中爛的，清洗標準和清洗加工工藝都綜合性了種清洗劑的特性，應(yīng)用領(lǐng)域較廣，而且在擺脫了相對的安全風險的另外維持了很高的清洗，減少了對自然環(huán)境的危害和身體健康的威協(xié)，集中化了種清洗劑的優(yōu)勢，但是半水基清洗劑的經(jīng)濟發(fā)展成本費也較高，解決花費也很大，限定了它的普遍推廣應(yīng)用。印刷voc廢氣治理

因為清洗目標不一樣，污漬的特性及臟污水平不一樣，清洗工作的自然環(huán)境標準不一樣，清洗后對表面緩蝕或防銹處理規(guī)定也不一樣，因而，挑選清洗劑解決條件開展剖析，擇優(yōu)錄用綜合性采用。

有機化學(xué)清洗劑在電子器件生產(chǎn)制造領(lǐng)域中關(guān)鍵運用于PCBpcb線路板集成化、LCD、半導(dǎo)體材料單晶硅片、LCM控制模塊、筆記本主板、獨立顯卡、微型馬達、LED等。印刷voc廢氣治理

立即點燃法

此方法亦稱之為苛化法、供熱點燃法，是運用或汽柴油等輔助然料點燃釋放的發(fā)熱量將混合氣加溫到一定溫度(700～800℃)，停留一定的時間(0.3～0.5秒)，使的有害物開展高溫溶解變成沒害化學(xué)物質(zhì)。印刷voc廢氣治理

催化燃燒裝置法

該法是將廢氣加溫到200~300℃歷經(jīng)催化反應(yīng)床點燃，做到凈化目地。其優(yōu)勢是耗能低、凈化率高、無二次污染、加工工藝簡易實際操作便捷。適用高溫濃度較高的的有機廢氣整治，不適感用以較低濃度的、風大量的有機廢氣整治。物在金屬催化劑功效下點燃，與立即點燃對比，催化燃燒裝置溫度較低，點燃較為。印刷voc廢氣治理