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       常用永磁體有釹鐵硼磁體。即磁體是通過(guò)粉末冶金工藝燒結(jié)成型的產(chǎn)品，因其中的富釹相、釹鐵硼主體及邊界很容易形成晶間腐蝕，并且稀土元素釹性質(zhì)活潑，因而使得整個(gè)釹鐵硼材料的耐蝕性極差，在潮濕環(huán)境下極易氧化生銹腐蝕。

       目前，常見(jiàn)的釹鐵硼磁體的防腐方法主要有電鍍、磷化、電泳等。但這些常規(guī)電鍍方法普遍存在各種各樣的問(wèn)題，例如工藝穩(wěn)定性不好，適用范圍較窄，防腐能力不足，設(shè)備投資大，運(yùn)行成本高等問(wèn)題。

       隨著市場(chǎng)多元化的不斷需求，對(duì)于很多企業(yè)來(lái)說(shuō)需要根據(jù)其產(chǎn)品的工序購(gòu)置不同的機(jī)器設(shè)備，拿真空鍍膜行業(yè)來(lái)說(shuō)，如果一臺(tái)機(jī)器就能完成從鍍膜前處理到鍍膜后處理，中間不需要人工干預(yù)不需要轉(zhuǎn)換工序，那么無(wú)疑是企業(yè)的香餑餑，在單設(shè)備上實(shí)現(xiàn)一體化多功能成為了鍍膜設(shè)備行業(yè)企業(yè)的共同需求。

       真空鍍膜設(shè)備普遍應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，無(wú)論是小產(chǎn)品還是大產(chǎn)品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產(chǎn)品，基本上所有需要進(jìn)行表面處理鍍膜的都需要用到。在鍍膜方式上，比較普遍的是采用蒸發(fā)鍍或者磁控濺射鍍或者離子鍍，在控制技術(shù)上，更多的應(yīng)用先進(jìn)的計(jì)算機(jī)技術(shù)和微電子技術(shù)，使得真空鍍膜設(shè)備更具性和智能自動(dòng)化。

原子層沉積是通過(guò)將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)器并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種方法（技術(shù)）。當(dāng)前驅(qū)體達(dá)到沉積基體表面，它們會(huì)在其表面化學(xué)吸附并發(fā)生表面反應(yīng)。在前驅(qū)體脈沖之間需要用惰性氣體對(duì)原子層沉積反應(yīng)器進(jìn)行清洗。由此可知沉積反應(yīng)前驅(qū)體物質(zhì)能否在被沉積材料表面化學(xué)吸附是實(shí)現(xiàn)原子層沉積的關(guān)鍵。氣相物質(zhì)在基體材料的表面吸附特征可以看出，任何氣相物質(zhì)在材料表面都可以進(jìn)行物理吸附，但是要實(shí)現(xiàn)在材料表面的化學(xué)吸附必須具有一定的活化能，因此能否實(shí)現(xiàn)原子層沉積，選擇合適的反應(yīng)前驅(qū)體物質(zhì)是很重要的。