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              脈沖激光沉積裝置公司專業(yè)團隊在線服務(wù)【沈陽鵬程】

              發(fā)布時間:2020-12-28 13:40  

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              脈沖激光沉積細節(jié)介紹

              很多復(fù)雜氧化物薄膜在相對高的氧氣壓力(>100 Torr)下冷卻是有利的。所有Pioneer 系統(tǒng)設(shè)計的工作壓力范圍。從它們的額定初始壓力到大氣壓力。這也有益于納米粒子的生成。

              Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°,保持了激光密度在靶材上的均勻性,同時避免使用復(fù)雜而昂貴的光學部件。淺的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點,導(dǎo)致密度均勻性的損失。

              為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵流體,消除油的回流對薄膜質(zhì)量的影響,所有Pioneer 系統(tǒng)的標準配置都采用無油真空系統(tǒng)。

              我們的研究表明靶和基片的距離是獲得較佳薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)采用可變的靶和基片的距離,對沉積條件進行較大的控制。

              如需了解更多脈沖激光沉積的相關(guān)信息,歡迎關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司網(wǎng)站或撥打圖片上的熱點電話,我司會為您提供專業(yè)、周到的服務(wù)。



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