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  凈化工程一般是建設潔凈室的工程，潔凈室(Clean Room)，亦稱為無塵室或清凈室。它是污染控制的基礎，沒有潔凈室，污染敏感零件不可能批量生產。

    公司承接全國各地各種行業潔凈廠房、空氣凈化工程、制藥車間、無塵凈化室、生物工程、潔凈手術室、無菌實驗室、裝配車間、提取車間、灌裝車間的設計及安裝。 可承建十萬級、萬級、千級、到百級的各類GMP凈化工程。

潔凈灌裝凈化車間運行操作：

空調潔凈車間運行前需檢查車間的各回風口是否暢通、車間的門是否關閉、車間內的清潔衛生是否干凈。檢查合格后方能啟動運行。

1、打開風機箱電源開關；

2、開風機后，注意風機空調機運轉是否正常；

3、開機后觀察潔凈車間內的壓差計與室外是否保持≥10Pa正壓風量；

4、開機30分鐘后，潔凈灌裝車間車間可進行正常工作；

5、潔凈廠房停止運行前，工作人員必須做好清潔工作；人員下班時關好所有門及物流通道口，同時打開紫外線殺菌燈20-30分鐘左右；

6、關閉風機箱電源開關；

7、操作人員檢查所有電源開關是否全部關閉。

潔凈室中的溫濕度控制：

    潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

    具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。

    濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產蕞佳溫度范圍為35—45%。

如何進入無塵潔凈室：

1、任何進入無塵潔凈室的人，必須先進入無塵更衣室，穿上無塵帽、無塵口罩、無塵衣、靜電防塵手套、無塵褲、無塵靴。經過這套外形很“酷”的防塵裝備可將人們身上已有的灰塵隔離在無塵潔凈室之外，但這才是步。

2、接著就要進入風淋室。所謂風淋室是指一條“吹風的長廊”，不過在這條長廊中吹出來的強風是沒有任何靜電存在的離子風。這種離子風所具有的中和能力可以將人身上的正負電荷中和，而且依靠靜電黏附在毛發、衣服上的灰塵也會自動脫落并粘在地板上的藍色洗塵墊上。

3、走過風淋室后，就進入無塵潔凈室了。如果無塵潔凈室生產的產品要防靜電，則還要經過“靜電橋”徹底地消除身上的靜電。若進入百級潔凈室還重復2、3步驟動作。