電子束蒸發(fā)鍍膜機廠家多重優(yōu)惠 沈陽鵬程公司

電子束蒸發(fā)鍍膜機產(chǎn)品介紹

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產(chǎn)品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸： 1片Φ8英寸或5片Φ4英寸或傘形工件架（用戶定制）

★蒸發(fā)材料：金屬；非金屬；化合物等薄膜材料。

★蒸發(fā)腔體：高真空系統(tǒng)。

★蒸發(fā)不均勻性：≤±3%-±5％

★工件架：可旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可調(diào)

★加熱：常規(guī)加熱

★電子槍：E型，帶XY偏轉(zhuǎn)掃描

★電子槍坩堝：6穴，17cc

★膜厚監(jiān)控功能：石英晶控膜厚在線監(jiān)測與終點控制

★清洗功能：可選配離子源清洗

★器件一次成型復(fù)合實驗系統(tǒng)：通過復(fù)合mask系統(tǒng)與樣品對準(zhǔn)系統(tǒng)，一次完成器件的多個工藝步驟

★檢測與控制光學(xué)特性的功能：可選配光控儀

★操作模式：全自動 半自動控制

電子束蒸發(fā)鍍膜機的用途

電子束蒸發(fā)沉積鍍膜設(shè)備，具有有機材料沉積和金屬材料沉積成膜功能。目前運用較多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜，在襯底上沉積各種金屬或合金電極并形成器件。可用于鍍半導(dǎo)體、金屬膜，氧化物、納米級單層及多層功能膜的連續(xù)沉積.

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電子束蒸發(fā)鍍膜機是由哪些部分組成的？

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設(shè)備組成：

設(shè)備由薄膜沉積室、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、水冷卻循環(huán)系統(tǒng)、膜厚監(jiān)測及控制系統(tǒng)、安全保護(hù)系統(tǒng)組成。

作用：電子束蒸鍍常用來制備Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜，SiO2、ZrO2膜，抗腐蝕和耐高溫氧化膜。

電子束蒸發(fā)鍍膜的優(yōu)勢

電子束蒸發(fā)的優(yōu)點在于：電子束的光斑可以隨意調(diào)整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。

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