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              負光阻光刻膠價格信息推薦

              發布時間:2020-07-19 10:09  

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              光刻膠分類

              1、負性光刻膠

              主要有聚酸系(聚酮膠)和環化橡膠系兩大類,前者以柯達公司的KPR為代表,后者以OMR系列為代表。

              2、正性光刻膠

              主要以重氮醒為感光化臺物,以酚醛樹脂為基本材料。的有AZ-1350系列。正膠的主要優點是分辨率高,缺點是靈敏度、耐刻蝕性和附著性等較差。

              3、負性電子束光刻膠

              為含有環氧基、乙烯基或環硫化物的聚合物。 的是COP膠,典型特性:靈敏度0.3~0.4μC/cm^2 (加速電壓10KV時)、分辨率1.0um、 對比度0.95。限制分辨率

              的主要因素是光刻膠在顯影時的溶脹。

              4、正性電子束光刻膠

              主要為甲酯、烯砜和重氮類這三種聚合物。的是PMMA膠,典型特性:靈敏度40~ 80μC/cm^2 (加速電壓20KV時)、分辨率0.1μm、 對比度2~3。

              PMMA膠的主要優點是分辨率高。主要缺點是靈敏度低,此外在高溫下易流動,耐干法刻蝕性差。


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              光刻膠市場空間

              以下是賽米萊德為您一起分享的內容,賽米萊德專業生產光刻膠,歡迎新老客戶蒞臨。

              光刻膠市場空間與半導體的分不開。2012-2018年全球半導體市場規模復合增速8.23%,在全球半導體行業的快速發展下,全球半導體光刻膠市場持續增長。

              而國內市場,因全球半導體、液晶面板以及消費電子等產業向國內轉移,對光刻膠需求量迅速增量。

              但是遠遠不夠,從全球光刻膠的市場競爭格局來看,光刻膠市場主要由日韓企業主導,國內企業市場份額集中在低端的PCB光刻膠上,高技術壁壘的LCD 和半導體光刻膠主要依賴進口。根據某些數據顯示,國內光刻膠產值當中,PCB光刻膠的占比高達95%,半導體光刻膠和LCD光刻膠產值占比都僅有2%。

              由上分析可知,我國目前在光刻膠領域急需技術突破的。



              如何選擇光刻膠

              光刻膠必須滿足幾個硬性指標要求:高靈敏度,高對比度,好的蝕刻阻抗性,高分辨力,易于處理,高純度,長壽命周期,低溶解度,低成本和比較高的玻璃化轉換溫度(Tg)。主要的兩個性能是靈敏度和分辨力。大多數光刻膠是無定向的聚合體。當溫度高于玻璃化轉換溫度,聚合體中相當多的鏈條片以分子運動形式出現,因此呈粘性流動。當溫度低于玻璃化轉換溫度,鏈條片段的分子運動停止,聚合體表現為玻璃而不是橡膠。當Tg低于室溫,膠視為橡膠。當Tg高于室溫,膠被視為玻璃。由于溫度高于Tg時,聚合體流動容易,于是加熱膠至它的玻璃轉化溫度一段時間進行退火處理,可達到更穩定的能量狀態。在橡膠狀態,溶劑可以容易從聚合體中去除,如軟烘培膠工藝。但此時膠的工作環境需要格外關注,當軟化膠溫度大于Tg時,它容易除去溶劑,但也容易混入各種雜質。一般來說,結晶的聚合體不會用來作為膠,因為結晶片的構成阻止均一的各向同性的薄膜的形成。

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              硅片模具加工如何選擇光刻膠呢?

              注意事項:

              ①若腐蝕液為堿性,則不宜用正性光刻膠;

              ②看光刻機型式,若是投影方式,用常規負膠時氮氣環境可能會有些問題

              ③負性膠價格成本低,正性膠較貴;

              ④工藝方面:負性膠能很好地獲得單根線,而正性膠可獲得孤立的洞和槽;

              ⑤健康方面:負性膠為有機溶液處理,不利于環境;正性膠屬于水溶液,對健康、環境無害。