真空鍍膜廠家優選商家

真空鍍膜是真空應用領域的一個突破性技術，利用物理或者化學方法并吸收一系列新技術而成的工藝，目的就是為了在實際生產中為產品創造薄膜保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。

為什么需要進行真空鍍膜呢？納米涂層要求使用浸泡的施工工藝，僅需要一只能容納線路板的小容器，容器的大小以剛好容納下PCBA為宜，不然會有較多的揮發損失，使用后的余料可以直接回收至原包裝中。這項工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術，主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優于產品本身的性能，從而提高產品的質量，延長加工產品的使用壽命，不僅如此，還可以節約能源，獲得更為顯著的技術經濟效益。

實際應用中，我們往往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用于金屬產品，蒸發鍍主要用于塑膠產品，光學離子鍍主要用于璃玻產品。這項工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術，主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優于產品本身的性能，從而提高產品的質量，延長加工產品的使用壽命，不僅如此，還可以節約能源，獲得更為顯著的技術經濟效益。真空電鍍為磁控濺射鍍，以電鍍不銹鋼產品材質為主，可以電鍍金色、玫瑰金色、黑色、槍色、藍色等顏色，質量穩定，品質保障。

對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間。(3)蒸發或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

防水納米液真空鍍膜技術的特點，真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。除化學氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點：

(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境，制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不良影響。

Parylene用獨特的真空氣相沉積工藝制備，由活性小分子在基材表面“生長”出完全敷形的聚合物薄膜涂層，具有其他涂層難以比擬的性能優勢。它能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊，裂縫里和內表面。

派瑞林英文名：Parylene六十年代中期美國Union Carbide Co. 開發應用的一種新型敷形涂層材料，它是一種聚合物，根據分子結構的不同，Parylene可分為N型、C型、D型、HT型等多種類型。