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發(fā)布時(shí)間:2021-10-20 01:28  
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真空鍍膜技術(shù)具有下列優(yōu)點(diǎn):
薄膜和基體選材廣泛,薄膜厚度可進(jìn)行控制,薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好,薄膜牢固。
鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境,以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng),不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾。
由于在真空條件下制膜,所以薄膜的純度高、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工,這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。
真空鍍膜表面的清洗非常重要,直接影響鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前,工件須在鍍膜前仔細(xì)清洗。為了避免加工過(guò)程中造成的缺陷,真空鍍膜廠家基本上可以通過(guò)脫脂或化學(xué)清洗的方式去除。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過(guò)程。派瑞林涂層材料
真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用時(shí)較早的。真空鍍膜技術(shù)在電子方面開(kāi)始是用來(lái)制造電阻和電容元件,之后隨著半導(dǎo)體技術(shù)在電機(jī)學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用,又使這一技術(shù)成為晶體管制造和集成電路生產(chǎn)的必要工藝手段。近年來(lái),隨著集成路向大規(guī)模和超大規(guī)模集成方向發(fā)展,從而又對(duì)真空鍍膜技術(shù)提出了新的要求。因而在電機(jī)學(xué)領(lǐng)域中又產(chǎn)生了一個(gè)新的分支一薄膜微電子學(xué)。真空鍍膜表面的清洗非常重要,直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前,工件須在電鍍前仔細(xì)清洗。
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