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              NR26 25000P光刻膠價格近期行情「多圖」

              發(fā)布時間:2021-06-20 06:50  

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              光刻膠的相關(guān)信息

              利用這種性能,將光刻膠作涂層,就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。基于感光樹脂的化學結(jié)構(gòu),光刻膠可以分為三種類型。

              光聚合型采用烯類單體,在光作用下生成自由基,自由基再進一步引發(fā)單體聚合,后生成聚合物,具有形成正像的特點。光分解型采用含有疊氮醌類化合物的材料,經(jīng)光照后,會發(fā)生光分解反應,由油溶性變?yōu)樗苄裕梢灾瞥烧阅z。光交聯(lián)型采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其分子中的雙鍵被打開,并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián),形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),而起到抗蝕作用,這是一種典型的負性光刻膠。柯達公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。

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              光刻膠分類

              正性光刻膠和負性光刻膠

              光刻膠可依據(jù)不同的產(chǎn)品標準進行分類。按照化學反應和顯影的原理,光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠。如果顯影時未曝光部分溶解于顯影液,形成的圖形與掩膜版相反,稱為負性光刻膠;如果顯影時曝光部分溶解于顯影液,形成的圖形與掩膜版相同,稱為正性光刻膠。

              在實際運用過程中,由于負性光刻膠在顯影時容易發(fā)生變形和膨脹的情況,一般情況下分辨率只能達到 2 微米,因此正性光刻膠的應用更為廣泛。

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              光刻膠成分介紹

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              光刻開始于-種稱作光刻膠的感光性液體的應用。 圖形能被映射到光刻膠上,然后用一個developer就能做出需要的模板圖案。 光刻膠又稱光致抗蝕劑,以智能管感光材料,在光的照射與溶解度發(fā)生變化。

              光刻膠成份

              光刻膠通常有三種成分:感光化合物、基體材料和溶劑。在感光化合物中有時還包括增感劑。根據(jù)光刻膠按照如何響應紫外光的性可以分為兩類:負性光刻膠和正性光刻膠。

              1、負性光刻膠

              主要有聚酯膠和環(huán)化橡膠系兩大類,前者以柯達公司的KPR為代表,后者以OMR系列為代表。

              2、正性光刻膠

              主要以重氮醌為感光化合物,以酚醛樹脂為基體材料。常用的有AZ- 1350系列。正膠的主要優(yōu)點是分辨率高,缺點是靈敏度、而刻蝕性和附著性等較差。

              光刻膠的特點

              1、在光的照射下溶解速率發(fā)生變化,利用曝光區(qū)與非曝光區(qū)的溶解速率差來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移;

              2、溶解抑制/溶解促進共同作用;

              3、作用的機理因光刻膠膠類型不同而不同;



              光刻膠的組成

              光刻膠一般由4種成分組成:樹脂型聚合物、光活性物質(zhì)、溶劑和添加劑。樹脂是光刻膠中占比較大的組分,構(gòu)成光刻膠的基本骨架,主要決定曝光后光刻膠的基本性能,包括硬度、柔韌性、附著力、耐腐蝕性、熱穩(wěn)定性等。光活性物質(zhì)是光刻膠的關(guān)鍵組分,對光刻膠的感光度、分辨率等其決定性作用。

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