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發布時間：2020-08-21 06:49
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視場光闌是光學系統中決定其成像范圍的一個光孔。在有中間實像平面的系統（例如開普勒望遠鏡和顯微鏡）和有實像平面的系統（例如攝影系統）中，視場光闌都設置在這種像平面上。視場光闌被其前面的光學零件在物空間中所成的像稱為入射窗，它對入射光瞳中心所張的角度是所有光孔像中者，這個角度稱為視場角。同樣，視場光闌被其后面的光學零件在像空間所成的像稱為出射窗。入射窗、視場光闌和出射窗也是共軛的。當視場光闌設置在實像平面或中間實像平面上時，入射窗和出射窗分別與物平面和像平面重合，此時視場有明晰的邊界。在無實像或中間實像平面的場合，例如眼睛通過放大鏡或伽利略望遠鏡觀察時，系統中也總有一個零件，它的通光孔徑起著限制視場的作用，上述二情況中，放大鏡本身孔徑和望遠鏡物鏡的孔徑就是決定可見視場范圍的視場光闌。顯然，此時入射窗不與物平面重合，無明晰的視場邊界。
顯微鏡的成像原理就是利用上述3和5的規律把物體放大的。當物體處在物鏡前F-2F（F為物方焦距）之間，則在物鏡像方的二倍焦距以外形成放大的倒立實像。
在顯微鏡的設計上，將此像落在目鏡的一倍焦距F1之內，使物鏡所放大的次像，又被目鏡再一次放大，終在目鏡的物方、人眼的明視距離（250mm）處形成放大的直立虛像。因此，當我們在鏡檢時，通過目鏡看到的像與物體方向相反。
光學系統在空間探索、、航空航天、儀器與裝備等領域作為關鍵的功能器件，是許多技術創新和應用的前沿陣地，相應帶動了新材料、新技術、新工藝、新裝備的創新發展。空間光學成像鏡頭、設備研究涉及材料配方研究、材料成型和燒結工藝、關鍵設備研制和維護、坯體的加工與無損檢測、光學表面改性、材料性能測試等一系列新材料、新工藝、新裝備的關鍵性技術，為當今世界科技前沿領域。極紫外光刻是傳統投影光刻技術向更短波長的延伸，被認為是潛力的下一代光刻技術。光學系統是極紫外光刻技術的功能部件之一，
