青島AR鍍膜機值得信賴「至成真空科技」

真空鍍膜機真空鍍膜機廠家真空鍍膜設備工藝清洗

真空鍍膜機真空工藝進行前應清洗真空材料，從工件或系統材料表面清除污染物；車燈鍍膜機零部件的表面清洗處理也是很有必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

真空鍍膜機污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”，多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態可分為固體、氣體及液體，它們以膜或散粒形式存在。就其化學特征來看，它可以處于離子態或共價態，可以是無機物或有機物。

真空鍍膜機暴露在空氣中的表面易受到污染，污染的來源有多種，起初的污染通常是表面本身形成過程中的一部分。吸附現象、化學反應、浸析和干燥過程、機械處理以及擴散和離析過程都使各種成分的表面污染物增加。

真空鍍膜機給物件鍍膜,為什么要在真空狀態下進行?

真空鍍膜機已經廣泛應用于生活中，大家對它也是耳熟能詳，也了解他的作用和用處，包括他的應用領域，但是很多人卻不太了解，真空鍍膜機在給物件鍍上一層膜的時候，為什么要選擇在真空狀態下進行：

大家都知道物件鍍膜在常壓下蒸鍍膜料無法形成理想的薄膜，事實上，如在壓力不夠低(或者說真空度不夠高)的情況下同樣得不到好的結果，比如在10托數量級下蒸鍍鋁，得到的膜層不但不光亮，甚至發灰、發黑，而且機械強度極差，用松鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁層破壞。蒸鍍必須在一定的真空條件下進行，這是因為：

（1）較高的真空度可以保證汽化分子的平均自由程大于蒸發源到基底的距離。

由于氣體分子的熱運動，分子之間的碰撞也是極其頻繁的，所以盡管氣體分子運動的速度相當的高(可達每秒幾百米)，但是由于它在前進的過程中要與其它分子多次碰撞，一個分子在兩次連續碰撞之間所走的距離被稱為它的自由程，而大量分子自由程的統計平均值就被稱為分子的平均自由程。

（2）在較高的真空度下可以減少殘余氣體的污染在真空度不太高的情況下，真空室內含有眾多的殘余氣體分子(氧、氮、水及碳氫化合物等)，它們能給薄膜的鍍制帶來極大的危害。它們與汽化的膜料分子碰撞使平均自由程變短；它們與正在成膜的表面碰撞并與之反應；它們隱藏在已形成的薄膜中逐漸侵蝕薄膜；它們與蒸發源高溫化合減少其使用壽命；它們在已蒸發的膜料表面上形成氧化層使蒸鍍過程不能順利進行。

多弧離子真空鍍膜機的由來

我國在真空鍍膜行業，目前更多的應用都集中在裝飾方面，對能有效地提高關鍵部件使用壽命機械功能薄膜的制備設備、工藝及應用研究方面還遠遠落后于國外先進水平。同時，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發展，之前的離子鍍膜機已體現出不能滿足裝飾鍍要求的問題。本技術的研發成功，將打破國內機械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國外技術的被動局面；對提高我國裝備制造業的技術水平和真空離子鍍的技術發展都是一個非常好的作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應用于其它關鍵部件中，起到了非常好的節約能源和提率的作用，可替代部分原來電鍍的工藝，對環境保護起到很好的作用。

目前，國際上機械功能硬質薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術，但陰極電弧沉積存在的主要技術問題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應用性能；特別是國內制造的陰極電弧沉積設備顆粒問題尤為嚴重。在此技術基礎上引入磁過濾技術，雖可解決表面沉積的顆粒問題，但沉積效率只有原來的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產周期長，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產應用。而磁控濺射技術所制備的膜層表面光潔、細膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結合力上不如陰極電弧技術所制備的膜層；在進行化學反應性鍍膜（如TiN、TiO2）時，由于金屬粒子的離化率低、反應活性差，必須過量通入反應性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學反應），引起蒸發速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應鍍膜存在著不穩定性和不可控性。