合肥四氟化碳廠-專業(yè)廠家「安徽譜純」

四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用。四氟化碳是一種造成溫室效應的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長時間停留在大氣層中，是一種非常強大的溫室氣體。四氟化碳一般認為是惰性低毒物質，在高濃度下是窒息劑，其毒性不及四氯1化碳。四氯化1碳與氟化1氫的反應在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行。

四氯化4碳與氟化1氫的反應在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行，反應后的氣體經水洗、堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分經精餾而得成品。對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應離子刻蝕時，通過調節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45:1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。四氟化碳的熱穩(wěn)定性更好。

高純四氟化碳在常溫常壓條件下化學性質穩(wěn)定，高純四氟化碳是一種高純電子氣體，在電子產業(yè)中需求量大。電子四氟化碳是目前半導體行業(yè)主要的等離子體蝕刻氣體之一，在硅、二氧化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻，以及低溫制冷、電子器件表面清洗等方面被廣泛應用。而電子特氣系統(tǒng)為它保駕護航，保證四氟化碳（CF4）的純度和安全穩(wěn)定使用。隨著手機、相機、太陽能電池等消費電子產品的需求量不斷攀升，高純度四氟化碳將成為四氟化碳行業(yè)的主要增長動力。

四氟化碳（CF4）早就是通過氟碳直接反應法制得的，該方法經過不斷的發(fā)展與完善, 如今已成為工業(yè)上制備全的主要的方法之一。四氟化碳用作低溫制冷劑及集成電路的等離子干法蝕刻技術。生成氣體通過液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化后，隨后通過硅膠干燥塔得到產品。在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行，反應后的氣體經水洗、堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，后經精餾而得成品。