淮北光學鍍膜設備詢問報價「至成真空科技」

AF防指紋真空鍍膜機鍍膜技術

AF英文全名Anti-fingerprint，中文為抗指紋，AF防指紋真空鍍膜機適用于手機。平板電腦，車載顯示器等觸控產品外，也適用于在其他數碼產品，電器，衛浴等塑料和金屬件的裝飾和功能薄膜上加鍍AF、AS涂層，提高光滑鍍、易清潔性。AF防指紋真空鍍膜機的性能是提高AF（防指紋或成AS防污染）真空膜層的性能，并通過提高設備產率和穩定性、降低材料消耗來大幅降低成本。

它的原理：AF防污防指紋玻璃是根據荷葉原理，在玻璃外表面涂制一層納米化學材料，將玻璃表面張力降至較低，灰塵與玻璃表面接觸面積減少90%，使其具有較強的疏水、抗油污、抗指紋能力；使視屏玻璃面板長期保持著光潔亮麗的效果。

真空鍍膜技術優點

鍍層附著性能好：普通真空鍍膜時，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生,可見附著多么牢固，膜層均勻，致密。

繞鍍能力強：離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優越得多。

因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。

鍍層質量好：離子鍍的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

鍍膜的工藝種類有哪些不同點？

水電鍍：一般適用于ABS料、ABS PC料的產品。主要工藝是將需電鍍的產品放入化學電鍍液中進行電鍍。依據客戶的不同需求，可鍍成不同的色彩，與高光銀色、亞銀色、灰銀，槍色，金色，黑鉻色，半光鉻。因為電鍍后的產品其導電性顯著增強，關于某些需絕緣的部件怎么辦？

方法有兩種：其一，在需絕緣的部位涂上絕緣油，該部位在電鍍時就不會被電鍍到，然后到達絕緣作用！當然，涂了絕緣油的部位會變黑，就不適合作為外觀面了。其二，在需電鍍的部位用特別的膠紙貼住，維護起來，同樣到達絕緣的作用。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質量，還會產生。所以在生產中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環境，減少擴散泵返油對玻璃的污染。同時可適當提高陰極的濺射功率，以增加粒子動能及擴散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強度（B）對膜層均勻度的影響磁控濺射的關鍵參數之一是與電場垂直的水平磁場強度B，因為水平磁場強度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數值。而實際生產過程中值是隨著使用方法及時間的推移，產生一定的變化，而出現不均勻現象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區的變化情況就可以驗證。