蘿崗納米真空鍍膜承諾守信「多圖」

鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，分子束外延，激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。

裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種，它們主要起提高膜層的結合力，降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度，保護金屬膜層的作用。

真空鍍膜設備對底涂層有何要求。

1、對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能，熱膨脹系數相差小，不起反應，流平性能好。

2、具有良好的真空性能。

3、成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

4、與面涂層有良好的相溶性。

5、施涂性能良好。流平性能良好，有適當的黏度、固化時間短。

真空鍍膜的操作規程

1．在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，須先開水管，工作中應注意水壓。

2．在離子轟擊和蒸發時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。

3．在用電子槍鍍膜時，應在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃。

4．鍍制多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。

5．有毒物品要妥善保管，以防。

6．酸洗夾具應在通風裝置內進行，并要戴橡皮手套。

7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。

8．工作完畢應斷電、斷水。

真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜機常見問題：真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜機其工作原理是在真空狀態下，使用弧光放電和輝光放電的工作原理。真空鍍膜設備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術。在金屬和非金屬的工件表面上鍍制金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等。亦可鍍防腐蝕膜（如AL,Cr不銹鋼及TiN等）和耐磨膜，膜層與基底結合牢固，利用濺射工藝進行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復性、致密度、均勻度等特點。適合于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建材等行業，具有很好的發展前景。