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              開封膠帶分切機廠誠信企業(yè)推薦「銘晟膠帶機械」

              發(fā)布時間:2021-04-30 17:31  

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              視頻作者:商丘市銘晟膠帶機械制造廠









              雙頭涂布工藝的真諦不能簡單地從字面去理解,也不是由原來一個涂布頭變成兩個涂布頭那么簡單,這種工藝必須有足夠的五輥涂布系統(tǒng)精度來做保障。在傳統(tǒng)無溶劑復合工藝中,A、B膠在混膠機內(nèi)完成一定比例的混合,雙頭涂布無溶劑復合設(shè)備則主要依靠雙頭的涂布系統(tǒng)來達到A、B膠的混合,目前雙頭涂布無溶劑復合設(shè)備的技術(shù)水平還不能完全保證A、B膠達到zui佳的反應比例,更無法保證涂膠的均勻性。涂布速度會明顯影響涂膠量,即存在剛開機時A、B膠比例出現(xiàn)偏差的情況。另外,在設(shè)備停機后剛起動時,通常能觀察到轉(zhuǎn)移膠輥上局部有一層橫向厚膠(寬度為3~5mm),有的部位則可能無膠,這可能會導致A、B膠配比極端不匹配,進而發(fā)生不交聯(lián)固化的現(xiàn)象。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制



              分切設(shè)備的影響

              分切機的精度、分切工藝的安排對分切后的不干膠材料質(zhì)量影響很大。

              1.分切刀具

              分切刀具不鋒利或擺動、進刀過深、側(cè)壓力不夠、潤滑不好、底刀粘膠過多等,均會造成不干膠材料端面質(zhì)量問題,包括端面滲膠、不整潔、材料輸紙擺動等。

              (1)端面滲膠

              刀具不鋒利,不干膠材料不是被完全切斷的,而是割斷的。膠黏劑粘在刀具和不干膠材料表面,易粘結(jié)灰塵;并且容易粘到印刷機導紙輥表面,給操作者帶來麻煩。(2)端面不整潔

              不干膠材料端面不整潔,在印刷時容易出現(xiàn)白點。這是因為不干膠材料邊緣的紙張纖維、涂層已經(jīng)松動,這些物質(zhì)會懸浮在不干膠材料、印版、膠輥表面,形成周期性白點。需要操作者頻繁清洗印版,造成很大浪費。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制



              涂布操作窗口是狹縫涂布一個重要的工藝參數(shù),在實際生產(chǎn)中,當工藝參數(shù)超出操作窗口的范圍時,涂布缺陷便會產(chǎn)生。而涂布膜出現(xiàn)的缺陷種類眾多,原因各異,本文主要針對鋰離子電池狹縫擠壓涂布,就幾種常見缺陷進行分析,并給出相應解決方案。常見缺陷有點缺陷、邊緣效應、鋸齒缺陷等。

              1點狀缺陷

              1.1氣孔:一是氣泡產(chǎn)生(攪拌過程、輸運過程、涂布過程);氣泡產(chǎn)生的zhen孔缺陷比較容易理解,濕膜中的氣泡從內(nèi)層向膜表面遷移,在膜表面po裂形成zhen孔缺陷。氣泡主要來自攪拌、涂液輸運以及涂布過程。

              1.2異物縮孔:各種顆粒(灰塵、油污、金屬顆粒等)產(chǎn)生。外來顆粒的存在導致顆粒表面處的濕膜存在低表面張力區(qū)域,液膜向顆粒周圍發(fā)射狀遷移,形成縮孔點狀缺陷,預防措施主要有:涂液過濾除鐵、環(huán)境粉塵控制、基材表面清潔。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制



              涂布均勻性在橫向和縱向上的影響因素是不同的,因此其控制措施也相應地有所不同。而在具體實施時,既與機器的設(shè)計制造有關(guān),也與操作和工藝控制有關(guān)。

              涂布的橫向均勻性及其控制

              涂布寬度方向的均勻性,主要受到如下幾方面因素影響:

              1)鋼輥和膠輥的形位公差。

              2)相對于鋼管和基材之間的接觸壓力。

              3)膠黏劑在橫向分布狀態(tài),這里主要指膠黏劑的粘度以及相應的轉(zhuǎn)移率。它主要是由前兩個因素和其工作粘度綜合決定的。

              涂布精度保證的di一基準是鋼輥的形位公差和它的剛性。在運轉(zhuǎn)過程中鋼輥的形位公差、剛性、平衡精度、裝配精度和內(nèi)置加熱保溫系統(tǒng)都直接影響膠黏劑的狀態(tài),從而影響轉(zhuǎn)移率和涂布均勻性。因此,設(shè)計和選用高精度的、耐磨性好的鋼輥是一項基礎(chǔ)性工作。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制


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