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發布時間：2021-06-29 08:22
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真空鍍膜機蒸發與磁控濺射鍍鋁性能
真空鍍膜機電子束蒸發與磁控濺射鍍鋁性能分析研究，為了獲得性能良好的半導體電極Al膜，我們通過優化工藝參數，制備了一系列性能優越的Al薄膜。通過理論計算和性能測試，分析比較了真空鍍膜設備電子束蒸發與磁控濺射兩種方法制備Al膜的特點。
嚴格控制發Al膜的厚度是十分重要的，因為Al膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說，它的工作電壓高，電流大，沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積Al膜上電流密度過高，易燒毀。對于一般的半導體器件，Al層偏薄，則膜的連續性較差，呈島狀或網狀結構，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過厚，引起光刻時圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產生邊緣腐蝕和“連條”現象。
采用真空鍍膜機電子束蒸發，行星機構在沉積薄膜時均勻轉動，各個基片在沉積Al膜時的幾率均等;行星機構的聚焦點在坩堝蒸發源處，各個基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調節并控制，因此膜厚的可控性和重復性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。
附著力反映了Al膜與基片之間的相互作用力，也是保證器件經久耐用的重要因素。真空鍍膜設備濺射原子能量比蒸發原子能量高1-2個數量級。真空鍍膜機高能量的濺射原子沉積在基片上進行的能量轉換比蒸發原子高得多，產生較高的熱能，部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原了相互溶合的偽擴散層，而且，在真空鍍膜設備成膜過程中基片始終在等離子區中被清洗，清除了附著力不強的濺射原子，凈化基片表面，增強了濺射原子與基片的附著力，因而濺射Al膜與基片的附著力較高。
真空鍍膜機的維修方法介紹
一、當正在鍍膜時真空度突然下降：
1、蒸發源水路膠圈損環（更換膠圈）
2、坩堝被打穿（更換坩堝）
3、高壓電極密封處被擊穿（更換膠圈）
4、工轉動密封處膠圈損壞（更換膠圈）
5、預閥突然關閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥）
6、高閥突然關閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥）
7、機械泵停機可能是繼電器斷開（檢查繼電器是否工作正常）
8、烘烤引入線電極密封處被擊穿（更換膠圈）
9、擋板動密封處膠圈損壞（更換膠圈）
10、玻璃觀察視鏡出現裂紋、炸裂（更換玻璃）
二、長期工作的鍍膜機抽真空的時間很長且達不到工作真空、恢復真空、極限真空、保真空：
1、蒸發室有很多粉塵（應清冼）
2、擴散泵很久未換油（應清冼換油）
3、前級泵反壓強太大機械泵真空度太低（應清冼換油）
4、各動密封膠圈損壞（更換膠圈）
5、由于蒸發室長期溫度過高使其各密封膠圈老化（更換膠圈）
6、蒸發室各引入水路密封處是否有膠圈損壞（更換膠圈）
7、各引入座螺釘、螺母有無松動現象（重新壓緊）
8、高低預閥是否密封可靠（注油）
真空鍍膜機和蒸發真空鍍膜機的差異
真空鍍膜機是在中間設置真空室，在真空室的左右兩側設置左右大門，而在其中配裝蒸發裝置和磁控裝置，可在該雙門上預留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。真空鍍膜機一般都是由真空系統、蒸發系統、薄膜卷繞系統、冷卻系統、控制系統等主要部分組成。
當薄膜運行速度達到一定數值后，打開擋板使氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。
通過控制金屬鋁的蒸發速度、基材薄膜的移動速度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。而蒸發真空鍍膜機是專業在塑料表面進行蒸發鍍鋁、鉻、一氧化硅的設備，鍍出的膜層牢固且細密，是工業化生產的理想設備，其特點是它的環保性，真空鍍膜設備屬于無三廢、無污染的清潔生產設備，無須環保部門審批。分為立式和臥式。
蒸發真空鍍膜設備成膜速率快，膜層牢固，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產生廢液、廢水，可避免對環境的污染，是大規模生產的理想設備。離子真空鍍膜機是當今世界上用于表面涂裝PVD膜層的先進設備,運用PLC及觸摸屏實現自動化邏輯程序控制操作,設備結構合理、外觀優雅、性能穩定、操作達到人機對話，簡便。
