鹽城鍍膜機廠家報價「多圖」

常用的光學鍍膜有哪些？

雖然薄膜的光學現象早在17世紀就為人們所注意，但是把光學薄膜作為一個課題進行專門研究卻開始于20世紀30年代以后，這主要因為真空技術的發展給各種光學薄膜的制備提供了先決條件。發展到今日，光學薄膜已得到很大發展，光學薄膜的生產已逐步走向系列化、程序化和專業化，但是，在光學薄膜的研究中還有不少問題有待進一步解決，光學薄膜現有的水平在不少工作中還不能滿足要求，需要提高。在理論上，不但薄膜的生長機理需要搞清光學薄膜，而且薄膜的光學理論，特別是應用于極短波段的光學理論也有待進一步完善和改進。在工藝上，人們還缺乏有效的手段實現對薄膜淀積參量的精準控制，這樣，薄膜的生長就具有一定程度的隨機性，薄膜的光學常數、薄膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不穩定性和盲目性，這一切都限制了光學薄膜質量的提高。所以，光學薄膜發展至今也可以說是一個飛躍性的進步了，今天首先賡旭光電小編和大家一起來認識一下生活當中常見的幾種光學薄膜。

一，減反射膜：又稱增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統的雜散光。

簡單的增透膜是單層膜，它是鍍在光學零件光學表面上的一層折射率較低的薄膜。當薄膜的折射率低于基體材料的折射率時,兩個界面的反射系數r1和r2具有相同的

光學薄膜：位相變化。如果膜層的光學厚度是某一波長的四分之一，相鄰兩束光的光程差恰好為π,即振動方向相反，疊加的結果使光學表面對該波長的反射光減少。適當選擇膜層的折射率，使得r1和r2相等，這時光學表面的反射光可以完全消除。

一般情況下，采用單層增透膜很難達到理想的增透效果,為了在單波長實現零反射,或在較寬的光譜區達到好的增透效果，往往采用雙層、三層甚至更多層數的減反射膜。圖1的a、b、c分別繪出Kg玻璃表面的單層、雙層和三層增透膜的剩余反射曲線。

真空鍍膜技術在光學儀器中的應用

人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀、以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等。它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

一般光學儀器中的光學系統都由多個透鏡組成，光線要經玻璃界面，會有相當多的光線被反射掉，透過的光線很少，影響光學儀器的光學效果。為了減少反射損耗，增大光線的透過率，往往在玻璃表面沉積增透膜來提高光的透過率。反射膜與增透膜相反，反射膜要求把入射光大部分或幾乎全部反射回去。例如：光學儀器、激光器、波導管、汽車和燈具的反射鏡都需要鍍反射膜。反射膜有金屬膜和介質膜兩種。鍍制金屬高反射膜常用的材料有鋁、銀、金、銅等。為了提高金屬膜表面的抗擦損能力，往往在表面鍍一層保護膜，如SiO/SiO2/Al2O3。

在激光器和多光束干涉儀反射鏡上，一般沉積低吸收、高反射的全介質反射膜。其結構是在基片上交替沉積光學厚度為λ/4的高、低折射率材料的膜層。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質量，還會產生。所以在生產中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環境，減少擴散泵返油對玻璃的污染。同時可適當提高陰極的濺射功率，以增加粒子動能及擴散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強度（B）對膜層均勻度的影響磁控濺射的關鍵參數之一是與電場垂直的水平磁場強度B，因為水平磁場強度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數值。而實際生產過程中值是隨著使用方法及時間的推移，產生一定的變化，而出現不均勻現象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區的變化情況就可以驗證。

減少真空鍍膜機中灰塵的方法

如今真空鍍膜機鍍膜技術在生活中隨處可見，但真空鍍膜機在日常使用中，經常累積上一層灰塵，這影響到后期鍍膜的整體效果，那么日常有哪些方法能減少真空鍍膜機中的灰塵呢？由于灰塵對鍍膜效果會產生比較大的影響，因此未來避免在真空鍍膜設備中留下灰塵，應該在使用過程中注意以下幾點來盡量避免，除此也要注意經常清洗，避免灰塵越積越多。

（1）真空鍍膜機一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理；

（2）真空鍍膜適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物；

（3）工作人員在操作時需要戴手套、鞋套等，要有規范的服裝，以保證平時工作中的清潔；

（4）真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求；

（5）設備樣品取出后要注意放置環境的清潔問題；

（6）設備使用的源材料要符合必要的純度要求；