保溫杯曝光顯影廠服務至上【利成感光】

通常用循環熱風烤箱或熱風道將墨膜內的稀釋劑“趕”出去。正確掌握烘烤溫度和烘烤時間非常重要，若溫度低和時間短，膜內的溶劑揮發不掉，曝光時粘菲林，顯影時膜不牢;如果溫度過高或烘烤時間過長，由于感光樹脂產生熱交聯反應，部分雙鍵被打開，已形成網狀結構，當曝光時已失去光化學反應機能，造成感度下降;顯影時，因未曝光部分已形成網狀結構，不溶于稀堿溶液，造成顯影難。

蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

顯影是在硅片表面光刻膠中產生圖形的關鍵步驟。光刻膠上的可溶解區域被化學顯影劑溶解，將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。常見的顯影方法是旋轉、噴霧、浸潤，然后顯影。硅片用去離子水沖洗后甩干。

非曝光區的光刻膠由于在曝光時并未發生化學反應，在顯影時也就不會存在這樣的酸堿中和，因此非曝光區的光刻膠被保留下來。經過曝光的正膠是逐漸溶解的，中和反應只在光刻膠的表面進行，因此正膠受顯影液的影響相對比較小。進行顯影的方式有很多種，廣泛使用的方法是噴灑方法。這種顯影方式可以分為三個階段：硅片被置于旋轉臺 上，并且在硅片表面上噴灑顯影液；然后硅片將在靜止的狀態下進行顯影；顯影完成后，需要經過漂洗，之后再烘干。