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磁     控    靶

 磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件，它的重要作用主要表現(xiàn)在以下兩個方面

(1)對于大面積表面的鍍膜，磁控濺射靶影響著膜層的均勻性與重復(fù)性；

(2)當(dāng)膜層材料為貴重金屬時，靶的結(jié)構(gòu)決定著靶材(形成薄膜的材料)，即該貴重金屬的利用率.從靶結(jié)構(gòu)上分為:圓形平面靶/柱狀靶/矩形靶/

常規(guī)圓形平面靶規(guī)格:

1.靶材尺寸：Ф50mm；Ф60mm；Ф75mm；Ф100mm；Ф150mm；可定制各類磁控靶

2.永磁靶（可濺射磁性材料)，射頻濺射與直流濺射兼容，靶內(nèi)水冷；

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水冷銅電極特征

水冷銅電極為感應(yīng)線圈，該加熱電極的兩端分別通過進(jìn)水水冷電纜和出水水冷電纜連接有電源控制開關(guān)，包括與進(jìn)水水冷電纜對接的進(jìn)水管路，以及與出水水冷電纜對接的出水管路，出水管路中在靠近出水水冷電纜的出水口處連通有緩沖室，在此緩沖室內(nèi)設(shè)有用于向電源控制開關(guān)發(fā)送控制信號的溫度傳感器。通過設(shè)置緩沖室和溫度傳感器，能夠?qū)崟r、準(zhǔn)確的監(jiān)測加熱電極流出的冷卻水的溫度，并及時反饋，為熔銅爐的正常工作提供了安全保障。想要了解更多水冷銅電極的相關(guān)內(nèi)容，請及時關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司網(wǎng)站。

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靶材提純方法

超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復(fù)用到的濺射(Sputtering)工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種,是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復(fù)用到的濺射(Sputtering)工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種,是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之

濺射工藝用離子源產(chǎn)生的離子,在高真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體 是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。

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