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影響智能巡檢儀穩(wěn)定運(yùn)行的因素

現(xiàn)場(chǎng)電磁干擾是智能巡檢儀控制系統(tǒng)中常見(jiàn)也是易影響系統(tǒng)可靠性的因素之一，所謂治標(biāo)先治本，找出問(wèn)題所在，才能提出解決問(wèn)題的辦法。因此必須知道現(xiàn)場(chǎng)干擾的源頭。干擾源及一般分類(lèi)影響智能巡檢儀控制系統(tǒng)的干擾源，大都產(chǎn)生在電流或電壓劇烈變化的部位，其原因是電流改變產(chǎn)生磁場(chǎng)，對(duì)設(shè)備產(chǎn)生電磁輻射；磁場(chǎng)改變產(chǎn)生電流，在能量轉(zhuǎn)換過(guò)程中，部分能量轉(zhuǎn)換為電磁波。通常電磁干擾按干擾模式不同，分為共模干擾和差模干擾。共模干擾是信號(hào)對(duì)地的電位差，主要由電網(wǎng)串入、地電位差及空間電磁輻射在信號(hào)線上感應(yīng)的共態(tài)（同方向）電壓疊加所形成。共模電壓通過(guò)不對(duì)稱電路可轉(zhuǎn)換成差模電壓，直接影響測(cè)控信號(hào)，造成元器件損壞（這就是一些系統(tǒng)I/O模件損壞率較高的主要原因），這種共模干擾可為直流，亦可為交流。差模干擾是指作用于信號(hào)兩極間的干擾電壓，主要由空間電磁場(chǎng)在信號(hào)間耦合感應(yīng)及由不平衡電路轉(zhuǎn)換共模干擾所形成的電壓，這種干擾疊加在信號(hào)上，直接影響測(cè)量與控制精度。

X射線儀器熒光光譜儀

X射線儀器分析的應(yīng)用幾乎遍及物理、化學(xué)、生物、金屬、地質(zhì)、礦物、陶瓷、半導(dǎo)體、材料科學(xué)以及高分子科學(xué)等各個(gè)學(xué)科領(lǐng)域，成為各學(xué)科的科學(xué)工作者獲得物質(zhì)組成和微觀結(jié)構(gòu)信息的手段。

當(dāng)某些物質(zhì)到被某種能量較高的輻射照射時(shí)，該物質(zhì)即發(fā)射出各種頻率極不同強(qiáng)度的光，停止照射這種光隨之消失，此種光線稱為熒光。

X射線照射物質(zhì)時(shí)，也可以產(chǎn)生次級(jí)X射線，即熒光X射線。熒光X射線的波長(zhǎng)只取決于物質(zhì)中原子的種類(lèi)。因此該波長(zhǎng)的熒光X射線的波長(zhǎng)就可以確定物質(zhì)的元素組分，這就是熒光X射線定性分析的基礎(chǔ)。根據(jù)產(chǎn)生的熒光X射線的強(qiáng)度，就能定量地求出各元素含量，就是是熒光X射線定量分析的基礎(chǔ)。X射線熒光光譜儀，根據(jù)分光原理，可以分為波長(zhǎng)色散型和能量色散型兩種基本類(lèi)型。波長(zhǎng)色散型X射線熒光光譜儀由X射線光管激發(fā)源、試樣室、晶體分光器、探測(cè)器和計(jì)數(shù)系統(tǒng)幾個(gè)部分組成。而能量色散型X射線熒光光譜儀則用分辨率較高的半導(dǎo)體探測(cè)器和多道脈沖分析器代替晶體分光器和一般探測(cè)器。X射線熒光分析廣泛應(yīng)用于鋼鐵、合金、礦石、玻璃、陶瓷、塑料、石油等材料的元素分析。固體、粉末和液體樣均可用此法分析，成為現(xiàn)代儀器分析的主要手段之一。

金屬打印機(jī)印刷位置

印刷位置準(zhǔn)確，避免了手工印刷所遇到的位置偏移的問(wèn)題金屬印刷機(jī)不再沿用傳統(tǒng)的印刷模式和方法，不再是過(guò)去簡(jiǎn)單的人工操作和手藝印刷，它與技術(shù)含量較高的電腦合成以及自控技術(shù)進(jìn)行了更好的有機(jī)結(jié)合，可以非常準(zhǔn)確的對(duì)準(zhǔn)需印刷的區(qū)域和位置，避免了手工印刷所遇到的位置偏移的問(wèn)題。由于它是一次性進(jìn)行多色印刷，也不會(huì)存在套色對(duì)位的問(wèn)題。這些優(yōu)勢(shì)還可以和雕刻、蝕刻進(jìn)行非常有效的結(jié)合，在雕刻的區(qū)域印刷出漂亮的畫(huà)面，或者印刷后進(jìn)行的蝕刻等，在雕刻行業(yè)中也能取得好的突破。