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物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過氣相過程，在材料表面沉積一層薄膜的技術。

物理沉積技術主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍三種基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點。

廣泛用于機械、航空航天、電子、光學和輕工業(yè)等領域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導電、絕緣、光學、磁性、壓電、滑潤、超導等薄膜。

氣相沉積技術是指將含有沉積元素的氣相物質，通過物理或化學的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術。

根據沉積過程的原理不同，氣相沉積技術可分為物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)兩大類。

金屬表面處理是指通過機械加工、熱處理、化學或復合方法使金屬表面的組織結構、化學成分和物理狀態(tài)等發(fā)生變化，從而使經過處理后的金屬表面表現出與原基體不同的性能，來滿足對金屬材料耐蝕性、耐磨性、裝飾性或者其他功能性的要求。目前已有許多成熟的金屬表面處理技術，通常按照加工方式不同，可分為機械方法、物理方法和化學方法三類。為了便于理解，我們按照是否對金屬材料表面引入其他元素或物質，將金屬表面處理技術分為兩大類，即表面組織強化方法和表面涂層方法。

氧 化

金屬中的氧化多為陽極氧化。為了克服鋁合金表面硬度、耐磨損性等方面的缺陷，擴大應用范圍，延長使用壽命，表面處理技術成為鋁合金使用中不可缺少的一環(huán)，而陽極氧化技術是目前應用最廣且最成功的。比如：鋁及其合金在相應的電解液和特定的工藝條件下，由于外加電流的作用下，在鋁制品（陽極）上形成一層氧化膜的過程。

除陽極氧化外，還有一種化學氧化，無需通電，只需在浸泡，是一種純化學反應?；瘜W氧化后的金屬耐磨性沒有陽極氧化好，但是導電性能較好。

除以上幾種常見的基礎金屬處理工藝外，還有一系列根據產品需求來做處理的工藝，如：金屬表面著色、烤漆等。不同的技術對金屬的性能改變各有不同，但最終都是使五金配件更為和耐用。