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偏鈦酸鋇將TiO2和BaCO3一起熔融制得偏鈦酸鋇：TiO2 BaCO3==BaTiO3十CO2-人工制得的BaTiO3具有高的介電常數，由它制成的電容器有較大的容量，更重要的是BaTiO3具有顯著的“壓電性能”，其晶體受壓會產生電流，一通電，又會改變形狀。人們把它置于超聲波中，它受壓便產生電流，通過測量電流強弱可測出超聲波強弱。幾乎所有的超聲波儀器中都要用到它。隨著鈦酸鹽的開發利用，它愈來愈廣泛地用來制造非線性元件、介質放大器、電子計算機記憶元件、微型電容器、電鍍材料、航空材料、強磁、半導體材料、光學儀器等。

離子鍍，電鍍混合廢水生化方法是高，新的生物技術，也就是熱鍍鋅行業清潔生產的關鍵技術，經營，操作管理和金屬回收，水質等，均優于傳統的化學沉淀法，離子交換法和電解過程。在國內和國外的微生物安全性評價方法應用到對環境的保護不報。真空鍍膜離子鍍是真空蒸發和濺射陰極技術的組合。未電離的中性原子(約95%的蒸發材料)也沉積在襯底或真空腔室的壁表面。場對在蒸汽分子(離子能量約幾百千電子伏特)和離子濺射的基板清洗效果，使薄膜的粘合強度的加速是大大增加了。蒸發后的材料的分子的電子碰撞電離離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。

真空鍍膜離子鍍，電鍍混合廢水處理生化過程與傳統的物理和化學過程，生物絮凝劑之間大的區別可連續操作過程中的育種，生物絮凝劑，以去除金屬離子與生物絮凝增加量的增加的劑量，傳統的離子交換過程中的離子交換樹脂的交換容量是有限的，飽和吸附后，不再能夠除去金屬離子。一種離子鍍系統，以基片作為陰極，陽極殼，惰性氣體(氣)，以產生輝光放電。從蒸發源的分子通過等離子體的電離區域。的正離子被加速襯底臺到襯底表面上的負電壓。化學沉淀法，化學主體的影響是一定的，沒有它們的增殖。離子鍍工藝結合蒸發(高沉積速率)和濺射層(良好的薄膜粘合)的工藝特點，并具有很好的衍射，對于形狀復雜的工件涂層。

PVD技術出現于二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。初在高速具領域的成功應用引起了制造業的高度重視，人們在開發、高可靠性涂層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色制造的發展方向。目前PVD技術因工藝多樣性，制程環保以及資源利用率高等特點在各個工業領域得以廣泛應用。