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卷繞式真空鍍膜機工作原理

現在的真空鍍膜機做得非常專業性了，有針對車燈產品研發的，有針對工模具硬質膜研發的，等等，現在還有一種是針對塑料膜研發的，卷繞式真空鍍膜機。大家也知道，像包裝紙，塑料袋這些產品，要在其上面鍍膜，還要保證膜層的均勻性，又不會使包裝約塑料袋等產生皺折，于是就研發出了卷繞式真空鍍膜機，它通過把產品固定并通過卷繞的方法，在產品上鍍膜，鍍出來的膜層只有0.01到0.2μm的厚度而已。商標印刷機在真空鍍膜機的真空室中分為上下兩個部分，而下面的又分為左右兩個部分，在下面的左右兩邊底下都放置著一個蒸發源，在蒸發源上放這靶材材料，當啟動蒸發源后通過電阻加熱把靶材蒸發上升到產品上沉積成膜，另外在產品不成膜的另一邊放置輝光放電發生器，產生放電氣體，使產品不會產生皺折。對于那些容易皺折的產品的鍍膜，卷繞式真空鍍膜機確實是一種非常好的設計。

卷繞式真空鍍膜機具有運行平穩、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產周期短、能耗低、操作維護方便、性能穩定等特點。卷繞系統采用直流或交流變頻調速，具有運行平穩、速度高、對原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面整齊等特點；張力控制采用進口數字張力控制系統，具有張力、線速度恒定，運作快速的特點；強勁的抽真空系統，配備節能維持泵。

真空電鍍設備膜厚的不均勻問題

無論監控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發源的不穩定或膜材的不同表現而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發源的恰當選擇可以使這些影響化。

在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統制造廠家提供高性能的小規格、簡便型光學鍍膜系統，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化化等方面。

現在，系統的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格設備進行光學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。因此，選用現代化光學鍍膜系統的關鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

真空鍍膜機濺射鍍膜與蒸發鍍膜的區別：

蒸發鍍膜是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。

蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。

濺射鍍膜可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。真空鍍膜機設備

濺射鍍膜又分為很多種，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

光學鍍膜機維護與保養當濃度電解試驗真空鍍膜設備不變

當濃度電解試驗真空鍍膜設備不變，鍍膜機改變電流密度、電解液的溫度，光滑（硬）的鉻可以得到三種不同的晶格層，即灰色的臉，明亮和乳白色鉻層。

1）灰色鉻層在低的溫度下獲得的，鍍膜機在高電流密度下的鉻層。從高高的程度（HV=uoo），韌性的方法，一個網狀圖案，色彩濃烈，黑暗水晶。用測量工具，鍍鉻。

2）亮鉻層是在介質溫度得到的鉻層，鍍膜機小電流密度。高硬度（HV=800），韌性好，耐磨，內應力小，密集的網格線，細晶，表面光亮。適用于磨損零件的修復。

2）乳白鉻層是在較高的溫度下得到的鉻層，鍍膜機電流密度低，硬度低的塑料涂層機（HV=400-500），塑性好，無網狀，細晶，像白色的，適用于沖擊載荷的零件增加尺寸和鍍裝飾鉻。

多孔（松孔鍍鉻，鍍鉻層）鍍膜機與點狀鉻層及鉻層溝狀兩種，可用電化學方法和機械方法。多孔鍍鉻吸附潤滑油的性能。因此，具有更好的耐磨性。

當預定線路鍍鉻陰極上的鍍鉻部件，這將導致陽極，鍍膜機把人格的酸溶液中電解（電解放電），通過DC，鉻層表面涂有一層薄而均勻的！

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