鋁陽(yáng)極氧化廠性價(jià)比出眾

鋁合金鉻酸硬質(zhì)氧化膜質(zhì)量的優(yōu)劣及其抗蝕防護(hù)性能的好壞主要取決于鋁合金成分、膜層厚度、硬質(zhì)氧化處理工藝條件f如溫度、電流密度、使用水質(zhì)及硬質(zhì)氧化后的填充封閉工藝等等。因此，要避免類似本文出現(xiàn)的硬質(zhì)氧化膜失效現(xiàn)象，就必須從細(xì)節(jié)把關(guān)，嚴(yán)格規(guī)范生產(chǎn)操作程序，杜絕鋁合金硬質(zhì)氧化工序后產(chǎn)生的酸性液體殘留，以防止陽(yáng)極化膜層受到腐蝕破壞。

工藝規(guī)范

1、開槽：整平光亮液(開槽液)

2、生產(chǎn)：溫度：95～110℃時(shí)間：1～5min

3、添加：當(dāng)槽液液面不能滿足生產(chǎn)要求時(shí)，應(yīng)及時(shí)補(bǔ)充添加液。補(bǔ)充添加液時(shí)一定要補(bǔ)充到初始液位。添加后，應(yīng)充分?jǐn)嚢璨垡海缓箝_始生產(chǎn)。

4、管理：整平光亮槽管理非常簡(jiǎn)單，及時(shí)按比例添加即可，溶解與帶出的AL3 可達(dá)到平衡，槽液壽命在3年以上。

5、消耗：鋁耗比酸蝕低，與拋光相當(dāng)；整平光亮劑消耗約為200～250Kg/T。

三、工藝對(duì)比整平光亮技術(shù)是在堿蝕、酸蝕、拋光技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，她吸收了前三項(xiàng)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)又避免了其缺點(diǎn)，是-項(xiàng)難得的技術(shù)突破。

1、硫酸濃度：通常采用15%～20%。濃度升高，膜的溶解速度加大，膜的生長(zhǎng)速度降低，膜的孔隙率高，吸附力強(qiáng)，富有彈性，染色性好（易于染深色），但硬度，耐磨性略差；而降低硫酸濃度，則氧化膜生長(zhǎng)速度加快，膜的孔隙少，硬度高，耐磨性好。所以，硬質(zhì)氧化用于防護(hù)，裝飾及純裝飾加工時(shí)，多使用允許濃度的上限，即20%濃度的硫酸做電解液。

2、電流密度：在一定限度內(nèi)，電流密度升高，膜生長(zhǎng)速度升高，硬質(zhì)氧化時(shí)間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會(huì)因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長(zhǎng)速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。

3、氧化時(shí)間：氧化時(shí)間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽(yáng)極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時(shí),膜的生長(zhǎng)速度與氧化時(shí)間成正比；但當(dāng)膜生長(zhǎng)到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長(zhǎng)速度會(huì)逐漸降低，到后不再增加。

4、攪拌和移動(dòng)：可促使電解液對(duì)流,強(qiáng)化冷卻效果，保證溶液溫度的均勻性，不會(huì)造成因金屬局部升溫而導(dǎo)致氧化膜的質(zhì)量下降。

5、鋁合金成分：一般來說,鋁金屬中的其它元素使膜的質(zhì)量下降，且得到的氧化膜沒有純鋁上得到的厚,硬度也低，不同成分的鋁合金,在進(jìn)行硬質(zhì)氧化處理時(shí)要注意不能同槽進(jìn)行。

陽(yáng)極氧化顧名思義主要是鋁的陽(yáng)極氧化，它采用電化學(xué)原理在鋁和鋁合金表面形成Al2O3（氧化鋁）薄膜。這種氧化膜是保護(hù)性——裝飾性——絕緣層——耐磨性等特殊特性。

典型產(chǎn)品：手機(jī)——電腦及其他電子產(chǎn)品——機(jī)械零件——飛機(jī)零件——精密儀器和無線電設(shè)備——日用品和建筑裝飾

產(chǎn)量適合：從單件到大批量

質(zhì)量：氧化膜是保護(hù)性的——裝飾性——絕緣性——耐磨性等特殊特性

速度：幾十分鐘？

鋁合金硬質(zhì)氧化適用材料：鋁以及鋁合金等鋁制品

流程成本：在陽(yáng)極氧化的生產(chǎn)中，水的消耗量——非常大，特別是在氧化過程中。此外，機(jī)器本身的熱量消耗需要通過循環(huán)水連續(xù)冷卻。每噸的功耗通常在1000度左右，輔助設(shè)施的減少可以減少一些功耗。

鋁合金硬質(zhì)氧化對(duì)環(huán)境造成的影響：

鋁合金硬質(zhì)陽(yáng)極氧化在能量效率方面不會(huì)產(chǎn)生顏色。在鋁電解生產(chǎn)中，陽(yáng)極效應(yīng)還產(chǎn)生對(duì)大氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。