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發布時間：2020-09-30 13:24
光刻膠
北京賽米萊德貿易有限公司供應美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY，此款負膠的設計適用于比較寬的波長范圍和i線（366納米）曝光工具。當顯影后NR9-3000PY顯示出負的側壁角度，是lift-off工藝中比較簡易的光刻膠。過去由于我國在開始規劃發展集成電路產業上，布局不合理、不完整，特別是生產加工環節的投資，而忽視了重要的基礎材料、裝備與應用研究。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優勢： 
政策扶持
為促進我國光刻膠產業的發展，國家02重大專項給予了大力支持。今年5月，02重大專項實施管理辦公室組織任務驗收專家組、財務驗收專家組通過了“極紫外光刻膠材料與實驗室檢測技術研究”項目的任務驗收和財務驗收。
據悉，經過項目組全體成員的努力攻關，完成了EUV光刻膠關鍵材料的設計、制備和合成工藝研究、配方組成和光刻膠制備、實驗室光刻膠性能的初步評價裝備的研發，達到了任務書中規定的材料和裝備的考核指標。項目共申請發明專利15項（包括國際專利5項），截止到目前，共獲得授權專利10項（包括國際專利授權3項）。EUV光刻光路基于反射設計，不同于上一代的折射，其所需光刻膠主要以無機光刻膠為主，如金屬氧化物光刻膠。
光刻膠國內研發現狀
“造成與國際水平差距的原因很多。過去由于我國在開始規劃發展集成電路產業上，布局不合理、不完整，特別是生產加工環節的投資，而忽視了重要的基礎材料、裝備與應用研究。目前，整個產業是中間加工環節強，前后兩端弱，核心技術至今被TOK、JSR、住友化學、信越化學等日本企業所壟斷。顯影完成后通常進行工藝線的顯影檢驗，通常是在顯微鏡下觀察顯影效果，顯影是否徹底、光刻膠圖形是否完好。
光刻膠的主要技術指標有解析度、顯影時間、異物數量、附著力、阻抗等。每一項技術指標都很重要，必須全部指標達到才能使用。因此，國外企業在配方、生產工藝技術等方面，對中國長期保密。中國的研發技術有待進一步發展
美國Futurre光刻膠
30．想請教國產光刻膠不能達到膜厚要求，進口的有沒有比較好的光刻膠??？
都可以??！goodpr是大陸比較多公司采用的，
但是Futurre 光刻膠在國外是比較有名氣的，包括很多大型企業都有用，膜厚做的也
比較厚從18um-200um都 可以做到，看你對工藝的要求了。
光刻膠品牌FUTURRE光刻膠產品屬性：
1 FUTURRE光刻膠產品簡要描述及優勢:
1.1 Futurre光刻膠黏附性好，無需使用增粘劑（HMDS）
1.2 負性光刻膠常溫下可保存3年
1.3 150度烘烤，縮短了烘烤時間
1.4 單次旋涂能夠達到100um膜厚
1.5 顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘
