電子束蒸發鍍膜設備廠家優惠報價

電子束原理介紹

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電子在電場中會受力而得到加速、提高能量，產生電子束。電子束焊原理一臺電子增速器，注入的電子能量為20GeV（1GeV=109 eV，也就是10億電子伏特），相應的電子速度為0.99999999979倍光速。電子經增速器加速后，能量可達到100GeV，電子速度達到0.999999999987倍的光速。這說明，電子在這臺增速器里速度幾乎沒有增加，而能量增加了4倍。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子槍一樣節約資源。

電子束鍍膜的濺射方式

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濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產品表面凝聚形成薄膜。

用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子槍一樣節約資源。

目前運用較多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作比較簡單的一種，所以運用非常廣。