黔南多功能水處理設(shè)備型號(hào)品質(zhì)售后無(wú)憂 濟(jì)南騰達(dá)換熱設(shè)備廠家

電子水處理器產(chǎn)品特點(diǎn)

1、技術(shù)先進(jìn):共鳴場(chǎng)電子水處理技術(shù)即變頻高頻電磁場(chǎng)水處理技術(shù)，國(guó)內(nèi)首創(chuàng)，

2.適應(yīng)性強(qiáng):能適應(yīng)不同的水質(zhì);

3.效果顯著:與固頻產(chǎn)品比較使用效果更顯著;

4、能耗小、體積小、重量輕、阻力小;

5、壽命長(zhǎng):新型除垢儀的使用壽命達(dá)20年以上;

6、有過(guò)濾功能: II型水處理器(多功能電子水處理器)帶有過(guò)濾及反神排污功能，可省去

管理系統(tǒng)上的過(guò)濾設(shè)備。

電子水處理器技術(shù)指標(biāo)

1、輸入電源: 220/50HZ

2、適應(yīng)水質(zhì):總硬度≤1000mg / [以CaCO3計(jì));水溫≤90C;公稱壓力1.0Mpa、1.6Mpa;

流速≤2.8m/s .

3、使用性能:除垢率≥97% 防垢率≥99%;滅菌率≥95%滅藻率≥97%;腐蝕率≤

0.125mm/a有效時(shí)間》3h

電子水處理器是當(dāng)今世界水工業(yè)領(lǐng)域的一項(xiàng)，該產(chǎn)品制造工藝先進(jìn)，無(wú)污染，性能穩(wěn)定，運(yùn)行費(fèi)用低，使用壽命長(zhǎng)，一次投資，多年受益。純水在電子工業(yè)尤其是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出，生產(chǎn)成品合格率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來(lái)越高。在電解電容器生產(chǎn)中，鋁箔及工作件的清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。在電子管生產(chǎn)中，電子管陰極涂敷碳酸鹽，如其中混入雜質(zhì)，就會(huì)影響電子的發(fā)射，進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水。




電子水處理在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過(guò)程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會(huì)使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會(huì)使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，水中的顆粒(包括細(xì)菌)如吸附在硅片表面，就會(huì)引起電路短路或特性變差。




在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過(guò)程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，與傳統(tǒng)的水處理技術(shù)相比，膜技術(shù)具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、易于自動(dòng)控制、能耗小、無(wú)污染、去除雜質(zhì)、運(yùn)行成本低等優(yōu)點(diǎn)，特別是幾種膜技術(shù)的配合使用，再輔之以其他水處理工藝，如石英砂過(guò)濾、活性炭吸附、脫氣、離子交換、UV殺菌等，為去除水中的各種雜質(zhì)，滿足日益發(fā)展的電子工業(yè)對(duì)高純水的需要，提供了有效而可靠的手段，而且也只有應(yīng)用了多種膜技術(shù)，才能生產(chǎn)出合格、穩(wěn)定的高純水。