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特種氣體系統(tǒng)的設計與施工

供氣系統(tǒng)的選擇

簡單供氣系統(tǒng)

簡單供氣系統(tǒng)主要針對4英寸及以下半導體芯片廠、半導體材料的科研機構以及一些單臺的工藝設備等。它們的制程簡單，通常不需要連續(xù)性供氣，對氣體供應系統(tǒng)的投資預算低。

惰性氣體瓶架則采用全手動系統(tǒng)，有些甚至用單瓶系統(tǒng)。所有氣體共用一個氣體房，甚至沒有氣體房，特氣鋼瓶和輸送系統(tǒng)有時放在回風夾道，或直接放在工藝制造設備旁邊或隔壁。如果沒有特別危險氣體一般共用一個抽風系統(tǒng)。簡單供氣系統(tǒng)通常存在安全隱患。

輔助系統(tǒng)的設計

氣體房和氣柜還須有自動噴淋系統(tǒng)，但有的氣體如三氟化氯,硅1烷遇水反應，這時就還需要考慮采用二氧化碳滅火系統(tǒng)。

排風系統(tǒng)和放空系統(tǒng)也是特氣系統(tǒng)的重要組成部分。其排風系統(tǒng)也根據(jù)危險品性質(zhì)分成普通排風系統(tǒng)（GEX）、酸性排風系統(tǒng)（SEX）、溶劑排風系統(tǒng)（VEX）、氨氣排風系統(tǒng)（AEX）。普通排風系統(tǒng)采用鍍鋅鐵皮風管，酸性排風一般采用玻璃鋼風管，溶劑和氨氣排風一般采用不銹鋼風管。因為光散射、光吸收主要是由OH-產(chǎn)生的，所以必須脫除光纖中的OH-離子。氣柜的排風也是根據(jù)其性質(zhì)接入上面不同的排風系統(tǒng)。

特種氣體的介紹

特種氣體用于各種電子產(chǎn)品生產(chǎn)的薄膜氣體、摻雜氣體、外延氣體、離子注入氣體、刻蝕氣體及工藝設備所使用的氣體。通常包括可燃性氣體、氧化性氣體、腐蝕性氣體、毒性氣體、惰性氣體等。

特種氣體使用的封閉式氣瓶放置與管理設備，一般應配置減壓裝置、真空發(fā)生器、、緊急切斷閥、過流開關、風壓事故報警、、壓力監(jiān)測及報警等安全使用所必須的設施。排風管配置泄漏探頭。氣瓶柜有手動、半自動、全自動三類。

CO2原料氣中包含的大量烴、硫類雜質(zhì)傳統(tǒng)精餾無法去除，本公司經(jīng)過多年潛心研究和多項實驗，研發(fā)出的多元精餾添加劑打破了雜質(zhì)共沸而無法除去的技術難題，使用精餾代替粗脫硫、水解、精脫硫、脫烴、二次脫水等多種工段，較傳統(tǒng)工藝一次性投資降低 50%。用于各種電子產(chǎn)品生產(chǎn)的薄膜氣體、摻雜氣體、外延氣體、離子注入氣體、刻蝕氣體及工藝設備所使用的氣體。同時管道的設計要采用零死區(qū)設計，即整個管道系統(tǒng)從氣柜到VMB、從VMB到用氣點，要點對點，中間不允許有在氣體置換時有殘留空氣的死角。通常包括可燃性氣體、氧化性氣體、腐蝕性氣體、毒性氣體、惰性氣體等。