光氧催化設(shè)備廠家品牌企業(yè)

光氧催化設(shè)備廠家

當(dāng)負(fù)載P25 UV光催化設(shè)備后，進(jìn)行光催化反響試驗(yàn)，光氧催化設(shè)備廠家試驗(yàn)結(jié)果表明運(yùn)用真空紫外線（UV）后，在同等條件下可以進(jìn)步光催化處理功率7%左右。在進(jìn)行光催化反響過(guò)程中，因?yàn)閁V 光源自身就能去除少數(shù)的家苯。而且UV 的能量更高所以其催化效果更好，一起因?yàn)楣饨獍l(fā)生的羥自由基與光催化的協(xié)同效果，也進(jìn)步了光催化法去除家苯的功率。光氧催化設(shè)備廠家試驗(yàn)光源選用一盞10W 真空紫外線（UV）燈，反響器進(jìn)口家苯濃度為200mg/m3，流量為0.6L/min，停留時(shí)間為25s，負(fù)載P25 UV光催化設(shè)備的玻璃珠為光催化反響器的填料。每距離15min從反響器出口采樣，分別在相對(duì)濕度15% 、30%、45% 、60%、70%下測(cè)定家苯的去除率。光氧催化設(shè)備廠家Ti02薄膜制備光氧催化設(shè)備廠家可用于光催化的資料有多種，包含Ti02、Fe203、WOa、CdS等，可是應(yīng)用上均具有局限性，現(xiàn)在公認(rèn)的催化作用醉佳的是Ti02，它具有活性高，分化速率快。

光氧催化設(shè)備廠家試驗(yàn)結(jié)果表明，相對(duì)濕度在15%到45%時(shí)，光催化對(duì)除家苯的去除功率跟著相對(duì)濕度的添加而進(jìn)步；當(dāng)相對(duì)濕度大于60%今后光催化的功率跟著相對(duì)濕度的添加而下降。相對(duì)濕度在45%到60%間光催化去除家苯的功率到達(dá)醉高。這首要原因是，光氧催化設(shè)備廠家在相對(duì)濕度較低時(shí)，反響系統(tǒng)中的水分子較少，光催化反響發(fā)生的·OH較少，而跟著相對(duì)濕度的添加，光催化反響系統(tǒng)中的·OH 逐步添加，然后進(jìn)步了光催化對(duì)家苯的去除功率；體系選用總控主機(jī)、PLC自動(dòng)化操控，設(shè)備自動(dòng)化程度高，設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)不必專人值守，下降操作人員的作業(yè)難度。但跟著相對(duì)濕度的持續(xù)添加，系統(tǒng)中的水分子越來(lái)越多，當(dāng)相對(duì)濕度大于60%今后，光催化反響系統(tǒng)中的水分子和反響物家苯在催化劑外表的競(jìng)賽吸附越來(lái)越顯著，然后使家苯的去除率開端下降。

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