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              真空鍍膜系統價格擇優推薦

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              發布時間:2020-07-20 23:59  






              鍍膜機操作程序

              真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設備說明書和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。

              ① 檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在'關'位置。

              ② 打開總電源開關,設備送電。

              ③ 低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。

              ④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位,保證無任何雜質污物。

              ⑤ 落下鐘罩。

              ⑥ 啟動抽真空機械泵。

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              油擴散泵在真空鍍膜機中的作用


              油擴散泵:機械泵的極限真空只有10-2帕,當達到10-1帕的時候,實際抽速只有理論的1/10,如果要獲得高真空的話,必須采用油擴散泵。

              油擴散泵的應用壓強范圍是10-1帕-10-7帕,它是利用氣體的擴散現象來排氣的,它具有結構簡單,操作方便,抽速大等特點。油擴散泵主要由泵殼、噴嘴、導流管和加熱器組成,里面主要添加擴散泵油(日本的型號是D-704#),根據噴嘴的多少可以分為單級泵和多級泵。3、磁控、熱蒸發多種鍍膜方式可選4、可集成手套箱系統5、可集成多種自動化應用想了解更多產品信息,您可撥打圖片上的電話咨詢。

              擴散泵底部內儲存有擴散泵油,上部為進氣口,右側旁下部為出氣口,在工作時出氣口由機械泵提供前置壓強,機械泵充當前置泵。

              當擴散泵的油被電爐加熱時,產生的油蒸汽提供前置壓強,機械泵充當前置泵。當擴散泵油被電爐加熱時,產生的油蒸汽沿著導流管經傘形噴嘴向下噴出。因噴嘴外面有機械泵提供的1-10-1帕的真空,故油蒸汽可噴出一段距離,構成一個向出氣口方向運動的射流。射流后碰上由冷卻水冷卻的泵壁,凝結為液體,流回蒸發器,即靠油的蒸發——噴射——凝結,重復循環來實現抽氣的。使用磁控濺射的真空鍍膜機一般采用的是圓筒主體結構,結構上要保證快速抽空,因氣袋會緩慢的放氣,因此要避免出現隔離孔穴,真空系統上端會加裝磁控濺射槍,為了使真空室和元件有足夠的強度,保證在外部和內部的作用力下不產生形狀的變化,厚度需要足夠。

              由進氣口進入泵內的氣體分子,一旦落入蒸汽流中,便獲得向下運動的動量,向下飛去,由于射流具有高的流速(約200米/秒),高的蒸汽密度,且擴散泵油具有高的分子量(300-500)故能有效的帶走氣體分子,因此在射流的界面內,氣體分子不可能長期滯留,且在射流界面的兩邊,被抽氣體有很大的濃度差,正是因為這個濃度差被抽氣體能不斷的越過界面,擴散進入射流中,被帶往出口處,在出口處再由機械泵抽走。冷捕集:就是不可凝氣體被可凝氣體捕集的現象,通常二氧化碳、水蒸氣、氮氣、壓氣等氣體首先形成霜,于低溫表面形成吸附層,進而達到吸附其它氣體的目的,低溫泵抽除混合氣體的效果比抽除單一效果好就是這個原因。

              擴散泵的油蒸汽壓是決定泵的極限真空的重要因素,因此盡量選用飽和蒸汽壓低的泵油,其化學特性要好。

              由于油擴散泵是無法杜絕有返油的幾率,那么沒有辦法保證精密產品的100%純凈,特別是半導體行業,所以就有“高真空冷凝泵+低真空機械泵”所組成的無油真空系統,冷凝泵組成的排氣系統不僅排氣效率極高,而且有效保證真空腔的清潔,保證產品的質量(避免產品被污染、增強膜層與基板之間的附著力),但是其維護成本非常的高,造價昂貴,所以普及率沒有油擴散泵廣泛。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異,因此,為了有效地利用太陽熱能,就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。

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              真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法


              制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。真空狀態需要抽氣系統來控制的,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。如:某真空干燥工藝要求10mmHg的工作真空度,選用的真空泵的極限真空度至少要2mmHg,最1好能達到1mmHg。

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              真空鍍膜機的真空室設計方法

              真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或者化學方法,使物體表面獲取所需膜體,真空鍍膜技術根據其采用方法的不同科分成蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等,這次分析的鍍膜設備采用的是磁控濺射鍍膜。

              真空室是真空設備的一個主要組成部位,真空鍍膜設備真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性,結構必須要合理,真空設備的材料生產都是在真空室內進行的,材料對真空度的影響要小,設計不能馬虎,要注意一些問題。

              使用磁控濺射的真空鍍膜機一般采用的是圓筒主體結構,結構上要保證快速抽空,因氣袋會緩慢的放氣,因此要避免出現隔離孔穴,真空系統上端會加裝磁控濺射槍,為了使真空室和元件有足夠的強度,保證在外部和內部的作用力下不產生形狀的變化,厚度需要足夠。

              焊接是真空室制造中的一道關鍵工序,保證焊接之后的真空室不會產生漏氣現象,須合理設計焊接結構,提高焊接質量,處在超高真空的內壁粗糙度要拋光使室外室內表面很光潔,須特別注意的是需做好防止生銹的措施。


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