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發(fā)布時間:2020-09-30 13:24  





光刻膠
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司供應(yīng)美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY,此款負(fù)膠的設(shè)計適用于比較寬的波長范圍和i線(366納米)曝光工具。當(dāng)顯影后NR9-3000PY顯示出負(fù)的側(cè)壁角度,是lift-off工藝中比較簡易的光刻膠。過去由于我國在開始規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上,布局不合理、不完整,特別是生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資,而忽視了重要的基礎(chǔ)材料、裝備與應(yīng)用研究。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優(yōu)勢:
政策扶持
為促進(jìn)我國光刻膠產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,國家02重大專項給予了大力支持。今年5月,02重大專項實施管理辦公室組織任務(wù)驗收專家組、財務(wù)驗收專家組通過了“極紫外光刻膠材料與實驗室檢測技術(shù)研究”項目的任務(wù)驗收和財務(wù)驗收。
據(jù)悉,經(jīng)過項目組全體成員的努力攻關(guān),完成了EUV光刻膠關(guān)鍵材料的設(shè)計、制備和合成工藝研究、配方組成和光刻膠制備、實驗室光刻膠性能的初步評價裝備的研發(fā),達(dá)到了任務(wù)書中規(guī)定的材料和裝備的考核指標(biāo)。項目共申請發(fā)明專利15項(包括國際專利5項),截止到目前,共獲得授權(quán)專利10項(包括國際專利授權(quán)3項)。EUV光刻光路基于反射設(shè)計,不同于上一代的折射,其所需光刻膠主要以無機(jī)光刻膠為主,如金屬氧化物光刻膠。
光刻膠國內(nèi)研發(fā)現(xiàn)狀
“造成與國際水平差距的原因很多。過去由于我國在開始規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上,布局不合理、不完整,特別是生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資,而忽視了重要的基礎(chǔ)材料、裝備與應(yīng)用研究。目前,整個產(chǎn)業(yè)是中間加工環(huán)節(jié)強(qiáng),前后兩端弱,核心技術(shù)至今被TOK、JSR、住友化學(xué)、信越化學(xué)等日本企業(yè)所壟斷。顯影完成后通常進(jìn)行工藝線的顯影檢驗,通常是在顯微鏡下觀察顯影效果,顯影是否徹底、光刻膠圖形是否完好。
光刻膠的主要技術(shù)指標(biāo)有解析度、顯影時間、異物數(shù)量、附著力、阻抗等。每一項技術(shù)指標(biāo)都很重要,必須全部指標(biāo)達(dá)到才能使用。因此,國外企業(yè)在配方、生產(chǎn)工藝技術(shù)等方面,對中國長期保密。中國的研發(fā)技術(shù)有待進(jìn)一步發(fā)展
美國Futurre光刻膠
30.想請教國產(chǎn)光刻膠不能達(dá)到膜厚要求,進(jìn)口的有沒有比較好的光刻膠啊?


都可以啊!goodpr是大陸比較多公司采用的,
但是Futurre 光刻膠在國外是比較有名氣的,包括很多大型企業(yè)都有用,膜厚做的也
比較厚從18um-200um都 可以做到,看你對工藝的要求了。
光刻膠品牌FUTURRE光刻膠產(chǎn)品屬性:
1 FUTURRE光刻膠產(chǎn)品簡要描述及優(yōu)勢:
1.1 Futurre光刻膠黏附性好,無需使用增粘劑(HMDS)
1.2 負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年
1.3 150度烘烤,縮短了烘烤時間
1.4 單次旋涂能夠達(dá)到100um膜厚
1.5 顯影速率快,100微米的膜厚,僅需6~8分鐘