光學(xué)鍍膜廠家的行業(yè)須知,仁睿電子科技有限公司

應(yīng)用多層膜干涉原理的薄膜防偽技術(shù)主要有兩種：一種是“整膜”的薄膜防偽技術(shù)；另一種是“碎膜”防偽技術(shù)。整膜和碎膜是指膜的形態(tài)而言。整膜是指一般意義上的防偽膜系；碎膜是指對(duì)反射式防偽膜系進(jìn)行破碎，然后將碎片加入油墨中制成防偽油墨，再用這種防偽油墨進(jìn)行防偽印刷。

防偽膜種類(lèi)很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜轉(zhuǎn)移式或間接鍍膜剪貼式。

可以預(yù)見(jiàn)，隨著真空技術(shù)和材料技術(shù)的發(fā)展以及鋼鐵行業(yè)對(duì)發(fā)展新型鋼材的迫切要求，帶鋼真空鍍膜必將成為帶鋼表面處理的一種重要的工藝技術(shù)，具有良好的發(fā)展前景。它為發(fā)展新型帶鋼材料提供了一個(gè)重要手段。

相對(duì)于傳統(tǒng)的電解鍍，熱浸鍍來(lái)說(shuō)，真空鍍膜的主要特點(diǎn)是：不使用有害氣體、液體，對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響。在當(dāng)前越來(lái)越重視環(huán)保的大趨勢(shì)下，這點(diǎn)極其可貴。

在理論上，不但鍍膜的生長(zhǎng)機(jī)理需要搞清光學(xué)鍍膜，而且鍍膜的光學(xué)理論，特別是應(yīng)用于極短波段的光學(xué)理論也有待進(jìn)一步完善和改進(jìn)。在工藝上，人們還缺乏有效的手段實(shí)現(xiàn)對(duì)鍍膜淀積參量的精準(zhǔn)控制，這樣，鍍膜的生長(zhǎng)就具有一定程度的隨機(jī)性，鍍膜的光學(xué)常數(shù)、鍍膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不穩(wěn)定性和盲目性，這一切都限制了光學(xué)鍍膜質(zhì)量的提高。所以，光學(xué)鍍膜發(fā)展至今也可以說(shuō)是一個(gè)飛躍性的進(jìn)步了，今天聯(lián)盈光學(xué)一起來(lái)認(rèn)識(shí)一下生活當(dāng)中常見(jiàn)的幾種光學(xué)鍍膜。