創世威納科技(多圖)-磁控濺射儀

磁控濺射鍍膜機的注意事項

1、保持機器內艙各部位的清潔；

2、關注真空度指標；

3、檢查并記錄抽真空的時間，如有延長，立刻檢查造成的原因；

4、記錄濺射功率和時間（一般濺射機的銀靶設定功率為0.6千瓦，金靶的設定功率為0.75千瓦，鉻的行走速率為9000pps），如有異常，立刻檢查造成的原因；

5、根據鍍出石英振子的散差，調整遮擋板的各部尺寸；

6、濺鍍后的石英振子要用3M膠帶檢查其牢固度；

7、測試并記錄鍍好的石英振子主要指標，如：頻率、電阻、DLD等；

8、將不良品挑出：電極錯位、劃傷、臟污、掉銀等（工位上要有不良品示意圖）。

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我國真空鍍膜機行業發展現狀和前景分析

當前我國真空鍍膜設備行業等傳統制造業產能過剩已經顯現，倒逼效應顯著，國家大力發展環保產業，對傳統電鍍行業予以取締或轉型或限產，這正是離子鍍膜行業發展的大好時機。真空鍍膜的高性價比以及傳統電鍍對環境的污染迫使真空鍍膜成為了主流，各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設備不斷增加。

創世威納以誠信為首，服務至上為宗旨。公司生產、銷售離子束刻蝕機，公司擁有強大的銷售團隊和經營理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！

磁控濺射原理

濺射過程即為入射離子通過--系列碰撞進行能量和動量交換的過程。

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與Ar原子發生碰撞，電離出大量的Ar離子和電子，電子飛向基片，磁控濺射儀，在此過程中不斷和Ar原子碰撞，產生更多的Ar離子和電子。Ar離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。

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創世威納科技(多圖)-磁控濺射儀由北京創世威納科技有限公司提供。北京創世威納科技有限公司位于北京市昌平區回龍觀北京國際信息產業基地高新二街2號4層。在市場經濟的浪潮中拼博和發展，目前創世威納在電子、電工產品制造設備中享有良好的聲譽。創世威納取得商盟認證，我們的服務和管理水平也達到了一個新的高度。創世威納全體員工愿與各界有識之士共同發展，共創美好未來。