合肥食品凈化車間信賴推薦「多圖」

100級：是常用的凈化工程，除了對空氣中的塵埃數有要求，對空氣中細菌的濃度也有明確要求。一般用于醫行業進行無菌制造，例如制造臨床用于植入人體內的物品，藥生產。醫學科學實驗也在此環境中，包括實驗動物飼養環境。1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設備的生產，和一些食品飲料的生產。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。排風系統有一般排風系統、有機氣體排風系統、酸性氣體排風系統、堿性氣體排風系統等，凈化車間設計時，要根據實際情況選擇。

1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設備的生產，和一些食品飲料的生產。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。10級：主要用于帶寬小于2微米的半導體工業。其空氣凈化要求僅次于1級，并且我國半導體技術也在發展之中，在未來對潔凈度的要求更加高。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。

凈化工程的一般施工程序：粉塵作業，無塵作業后，不允許交叉作業。 否則會影響項目的質量。 也就是說，在完成所有粉塵產生操作之后，可以進行無塵操作。凈化工程的步的關鍵是設計，工程設計水平的好與壞將直接關系到整個工程之后的施工，還會影響凈化工程今后的穩定性、可靠性、經濟性。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產溫度范圍為35—45%。