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              嘉興熒光測(cè)厚儀的用途和特點(diǎn)【一六儀器】

              發(fā)布時(shí)間:2021-01-20 19:28  

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              一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

              元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

              一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

              X熒光測(cè)厚儀可調(diào)整測(cè)量位置,非常敏捷快速?;蚴菧y(cè)量位置已完成登陸時(shí),可連續(xù)自動(dòng)測(cè)定,利用座標(biāo)補(bǔ)正、連結(jié)頻道,來(lái)應(yīng)付各種測(cè)量軌跡。亦可用自動(dòng)測(cè)定來(lái)作標(biāo)準(zhǔn)片校正。

                測(cè)定部顯示盡像的表示:X線照射部可由WINDOWS畫(huà)面上取得照射部的表示。從準(zhǔn)儀照射測(cè)定物的位置,可由倍率率更機(jī)能來(lái)實(shí)現(xiàn)盡面上測(cè)出物放大。。。


              一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

              應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

               在我們的售前服務(wù)工作中,客戶通常都會(huì)拿一些在其它機(jī)構(gòu)或者儀器測(cè)量過(guò)的樣品來(lái)與我們儀器進(jìn)行測(cè)試結(jié)果對(duì)比,在確認(rèn)雙方儀器都是正常的情況下,會(huì)存在或多或少的差異,那么我們務(wù)必要把這個(gè)差異的來(lái)源分析給客戶,我們?cè)诜治鲋笆紫纫o客戶解說(shuō)測(cè)試的基本原理,告知此儀器為對(duì)比分析測(cè)試儀器,然后再談?wù)`差來(lái)源,主要來(lái)源:


                1、標(biāo)樣:對(duì)比分析儀器是要求有越接近于需測(cè)試樣品的標(biāo)樣,測(cè)試結(jié)果越接近實(shí)際厚度。確認(rèn)雙方有沒(méi)有在標(biāo)定和校正時(shí)使用標(biāo)樣?使用的是多少厚度的標(biāo)樣?

              2、樣品材料的詳細(xì)信息:如Ni/Cu的樣品,如果一家是按化學(xué)Ni測(cè)試,一家是按純Ni測(cè)試;Au/Ni/Cu/PCB樣品,一款儀器受Br干擾,一款儀器排除了Br干擾。

                 3、測(cè)量位置、面積:確定在同一樣品上測(cè)試的是否同一位置,因?yàn)闃悠吩陔婂儠r(shí)因電位差不同,各部位厚度是有差異的;確認(rèn)兩款儀器測(cè)量面積的大小有多少差異。

              4、樣品形狀:測(cè)量的樣品是否是兩款儀器都可測(cè)量,或者放置位置是否合適,如突出面有無(wú)擋住設(shè)備接收。


              鍍層厚度分析儀的測(cè)量方法主要有:楔切法,光截法,電解法,厚度差測(cè)量法,稱重法,X射線熒光法,β射線反向散射法,電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等等。這些方法中前五種是有損檢測(cè),測(cè)量手段繁瑣,速度慢,多適用于抽樣檢驗(yàn)。

              X射線和β射線法是無(wú)接觸無(wú)損測(cè)量,測(cè)量范圍較小,X射線法可測(cè)極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線法適合鍍層和底材原子序號(hào)大于3的鍍層測(cè)量。電容法僅在薄導(dǎo)電體的絕緣覆

              層測(cè)厚時(shí)采用。


              江蘇一六儀器    X射線熒光光譜測(cè)厚儀

              產(chǎn)品配置

              X光金屬鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)配置為:X射線管,正比計(jì)數(shù)器﹨半導(dǎo)體探測(cè)器,高清攝像頭,高度激光,信號(hào)檢測(cè)電子電路。

              性能指標(biāo)

              X射線激發(fā)系統(tǒng) 垂直上照式X射線光學(xué)系統(tǒng)

              空冷式微聚焦型X射線管,Be窗

              標(biāo)準(zhǔn)靶材:Rh靶;任選靶材:W、Mo、Ag等

              X射線管:管電壓50KV,管電流1mA

              可測(cè)元素:CI~U

              檢測(cè)器:正比計(jì)數(shù)管

              樣品觀察:CCD攝像頭

              測(cè)定軟件:薄膜FP法、檢量線法

              Z軸程控移動(dòng)高度 20mm



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