您好，歡迎來到易龍商務網！
發布時間：2021-08-08 09:07
【廣告】
什么是磁控濺射？
磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。微電子行業領域中，其是一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣象沉積上。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。
想要了解更多沈陽鵬程真空技術有限責任公司的相關信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！
【磁控濺射鍍膜設備】使用注意事項
以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容，沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產磁控濺射產品，歡迎新老客戶蒞臨。
磁控濺射鍍膜設備是目種鍍膜產品，相比傳統的水電鍍來講，磁控濺射鍍膜設備無毒性，能夠掩蓋，彌補多種水電鍍的缺陷。
近年來磁控濺射鍍膜設備技術得到了廣泛的應用，現國內磁控濺射鍍膜設備廠家大大小小的也非常多，但是專注于磁控濺射鍍膜設備生產，
經驗豐富的卻造磁控濺射鍍膜設備廠家，就一定會有一定的規模，這類磁控濺射鍍膜設備不像是小件的東西，
磁控濺射鍍膜設備其技術含量非常的高，選購磁控濺射鍍膜設備時一定要先了解。
磁控濺射鍍膜設備技術含量高，那么就一定要擁有一個非常強大的磁控濺射鍍膜設備技術工程隊伍，
磁控濺射鍍膜設備行業資深的，磁控濺射鍍膜設備可根據用戶的產品工藝及物殊要求設計配置。
磁控濺射系統介紹
想了解更多關于磁控濺射產品的相關資訊，請持續關注本公司。
真空泵和測量裝置：
低真空：干泵和convectron真空規
高真空：渦輪分子泵，低溫泵和離子規
5.控制系統：
硬件：PLC和計算機觸摸屏控制
自動和手動沉積控制
主要特點：
射頻電源：基底預先清洗和等離子體輔助沉積
溫度控制器：基底加熱
大面積基底傳送裝置
冷卻系統
