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發布時間：2020-12-20 07:21
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鍍膜機廠家介紹光學監控法的特點
真空鍍膜機膜厚的監控方法較多，目前較新的方法是光學監控法，其相對于的傳統的石英晶體微量平衡法來說，光學監控法更具有準確性，因為傳統的測試的方法很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機廠家就來為大家介紹一些光學監控法的特點。
光學監控法可以有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長，光學監控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。能夠更準確地控制膜層厚度 。
上述所說就是鍍膜機廠家為大家介紹的光學監控法的一些特點，而從中我們不難看出光學監控相比傳統的監控法來說是一種更適合對真空鍍膜機膜厚的監測方法。
真空電鍍機操作注意事項
左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。
低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至110mA時，左旋鈕'1'旋轉至指向2區段測量位置。
當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
真空鍍膜機開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。
低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥（閥桿順時針旋轉）。
等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時，開規管燈絲開關。
發射、零點測量鈕“9”旋轉至指向發射位置。
左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
旋轉發射調節鈕“4”，使高壓真空表“5”內指針指向5。
發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向零點位置。
旋轉零點調節鈕“10”，讓高壓真空表“5”內指針指向0位置。
發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向測量位置。
旋轉標準調節鈕“3”，讓高壓真空表“5”內指針指向10。
旋轉“倍加器”開關鈕“8”至指向10-12，當高壓真空表“5”內指針逆時針左移超過1時，再把“倍加器”開關旋鈕“8”旋轉至指向10-3。
真空電鍍機行業發展優勢
真空電鍍機對環境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環境的要求，和對處于真空狀態或真空中的零件或表面要求兩個方面。這兩個方面是有密切聯系的。周圍環境的好壞直接影響真空設備的正常使用;而真空設備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預期的真空度很難的。眾所周知，油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當大量抽除可凝性氣體時，對泵油的污染會更加嚴重，結果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。口巨業環境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態的物質。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個一個計數的微小物質。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態存在于氣體中的物質體系。物質無論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態均可統稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標準，從而定制出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的口巨業部門，也適合于真空對潔凈環境的要求。
