您好，歡迎來到易龍商務網！
發布時間：2021-10-11 21:23
【廣告】
臥式磁控濺射鍍膜機
以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容，沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產磁控濺射產品，歡迎新老客戶蒞臨。
主要用途：
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
系統組成:
主要由真空室系統濺射室、靶及電源系統、樣品臺系統、真空抽氣及測量系統、氣路系統、控制系統、電控系統、計算機控制系統及輔助系統等組成。
濺射鍍膜
濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術。通常，利用低壓惰性氣體輝光放電來產生入射離子。旋轉基片臺1套，樣品臺可放置不小于100mm樣品1片，具有連續旋轉功能，旋轉0—30轉/分連續可調。陰極靶由鍍膜材料制成，基片作為陽極，真空室中通入0.1-10Pa的氣或其它惰性氣體，在陰極（靶）1-3KV直流負高壓或13.56MHz的射頻電壓作用下產生輝光放電。電離出的離子轟擊靶表面，使得靶原子濺出并沉積在基片上，形成薄膜。濺射方法很多，主要有二級濺射、三級或四級濺射、磁控濺射、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱交流射頻濺射、離子束濺射以及反應濺射等。
想要了解更多磁控濺射產品的相關信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！
自動磁控濺射系鍍膜機介紹
以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，希望對同行業的朋友有所幫助。
自動磁控濺射系統選配項：
RF、DC濺射
熱蒸鍍能力
RF或DC偏壓（1000V）
樣品臺可加熱到700°C
膜厚監測儀
基片的RF射頻等離子清洗
應用：
晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
光學以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應濺射
