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鍍膜技術在信息存儲領域中的應用

薄膜材料作為信息記錄于存儲介質，有其得天獨厚的優勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。

物理氣相沉積（PVD）是一種真空鍍膜工藝，許多人知道常用于提高切削刀具的性能。但北京丹普表面技術有限公司的真空鍍膜機設備可以提供陰極電弧PVD涂層服務可提供更硬，更潤滑的產品，與未涂層工具相比，可將工具壽命提高10倍。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢。耐磨表面。 此外，制造商越來越多地使用PVD涂層來區分其設備的外觀與類似產品和/或增強其設備的性能，因為硬質惰性涂層具有生物相容性，不會與骨骼發生反應，組織或體液。涂覆PVD涂層的的實例包括，鉆頭和針頭，以及用于各種裝置組件以及應用的“磨損”部件。

鍍膜技術在防偽技術中的應用 防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

鍍膜技術在飛機防護涂層方面的應用 飛機的鈦合金緊固件，原來采用電鍍方法鍍鎘。現在，系統的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格設備進行光學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。 鍍膜技術在光學儀器中的應用 人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

蒸發式真空鍍膜機的工作原理：通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之知一。 蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。鍍膜技術在太陽能利用方面的應用當需要有效地利用太陽熱能時，就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子道以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發專源的蒸發速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的屬距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。簡言之，蒸發式真空鍍膜機的工作原理就是真空室內利用電阻加熱法，把緊緊貼在電阻絲上面的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。