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              激光開封機設備的行業須知「蘇州特斯特」

              發布時間:2021-10-17 05:05  

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              可選擇面積樣品制備系統;可用于元器件光發射,熱發射以及紅外成像分析的背面減薄;可減薄位于晶圓, 多芯片模塊及混 合電路中的單個芯片;多層存儲芯片內部分析的必備工具;無劃痕,可達鏡面效果;制樣面積從1x1mm到40x40mm。蘇州特斯特電子科技有限公司,主要從事各類測試、檢測儀器設備的代理銷售和技術服務,產品涵蓋電子元器件,電路板,線纜線束的測試與檢測。設備主要來自于歐美日等先進測試設備制造國家。






              等離子開封設備PlasmaEtch是一個革命性的氣體為基礎的半導體蝕刻系統。采用以前從未見過的應用微波氣體化學基團為各向同性腐蝕。PlasmaEtch腐蝕大部分樣本大小,封裝類型和引線鍵合的類型。無論它是一個傳統的金絲樣品或者該樣品設有銅或銀導線,PlasmaEtch都提供了的蝕刻。等離子開封設備是為快速蝕刻模具化合物,聚酰芯片特別研發的,無需攻擊敏感的接線便可將芯片開封。


              等離子開封機優點:

              1)對銅線、數化銅線及

              2) 銀線線無傷害

              3) 傷害小 (selectivity > 500:1)

              4)快速等向性蝕刻

              5) 無離子、無輻射

              6) 加力聚焦下游等離子體刻蝕

              7) 質量流量控制的所有氣體

              8) 低溫蝕刻

              9) 各向同性蝕刻

              蘇州特斯特電子科技有限公司,主要從事各類測試、檢測儀器設備的代理銷售和技術服務,產品涵蓋電子元器件,電路板,線纜線束的測試與檢測。


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