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潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。一）電荷等量的均勻的電中性狀態(tài)，而使電荷過(guò)剩，物體呈帶電狀態(tài)，由于這些電荷平時(shí)是不流動(dòng)的，故稱靜電。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院螅瑢?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過(guò)25度，濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)的濕度范圍為35—45%。

在潔凈室內(nèi)靜電導(dǎo)致的事故有以下幾方面：

1．靜電電引起的靜電，引起人的不安全和恐懼感，并可造成二次傷害(例如人因受而摔倒，由摔倒又致傷)；

2．靜電放電引起的放電電流，可導(dǎo)致諸如半導(dǎo)體元件等破壞和誤動(dòng)作，例如將50塊P- MOS電路放在塑料袋內(nèi)，搖晃數(shù)次后，與非門柵極嚴(yán)重?fù)舸┱哂?jì)39塊，失效率競(jìng)達(dá)78%，這是因?yàn)榘雽?dǎo)體器件對(duì)靜電放電十分靈敏；

3．靜電放電產(chǎn)生的電磁波可導(dǎo)致電子儀器和裝置的雜音和誤動(dòng)作；

4．靜電放電的發(fā)光可導(dǎo)致照相肢片等感光破壞；

5．靜電的力學(xué)現(xiàn)象可導(dǎo)致篩孔被粉塵堵塞，紡紗線紛亂，印刷品深淺不均和制品污染。

各種凈化廠房、無(wú)塵無(wú)菌室、凈化實(shí)驗(yàn)室、GMP車間等的設(shè)計(jì)、安裝、維修等。生產(chǎn)制造各種凈化潔凈設(shè)備：主要為電子、食品、航空航天、光學(xué)光電、半導(dǎo)體塑料、化工、包裝、噴涂、化妝品、科研等行業(yè)，滿足客戶不同的凈化級(jí)別。氣流有如一個(gè)空氣活塞，向下流經(jīng)室內(nèi)，帶走污染物，然后從地面排出。凈化原理 氣流→初效凈化→空調(diào)→中效凈化→風(fēng)機(jī)送風(fēng)→管道→凈化風(fēng)口→吹入房間→帶走塵埃細(xì)菌等顆粒→回風(fēng)百葉窗→初效凈化 重復(fù)以上過(guò)程，即可達(dá)到凈化目的。

薄涂型環(huán)氧樹(shù)脂地板

特性：整體平整、附著力強(qiáng)、耐磨、耐酸堿，防潮、防霉、色彩艷麗，且易于清洗、施工簡(jiǎn)易工期短、成本經(jīng)濟(jì)。

適用范圍：地板基礎(chǔ)較好、無(wú)重載輕工業(yè)廠房、停車場(chǎng)、寫字間、倉(cāng)庫(kù)、無(wú)塵墻壁、天花涂裝、舊環(huán)氧樹(shù)脂地板修補(bǔ)等。

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