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靜電場氣泡水蔬菜處理技術(shù)

清洗工藝要素的選擇：

1、清洗介質(zhì)：采用超聲波清洗，一般有兩種清洗劑:化學(xué)溶劑和水基清洗劑。清洗介質(zhì)的化學(xué)作用，加上超聲波清洗的物理作用，兩種作用相結(jié)合，以對物體進(jìn)行充分、徹底的清洗。

2、清洗溫度：一般來說，超聲波在30℃-40℃時空化效果好。清洗劑則溫度越高越好，作用越顯著。通常實際應(yīng)用超聲波清洗時，采用40℃-60℃的工作溫度。

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   　等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。

　　1)對材料表面的刻蝕作用--物理作用

　　2)交聯(lián)作用

　　等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)。

　　3)形成新的官能團(tuán)--化學(xué)作用

      多層鍍膜過程之間的清洗：多層鍍膜過程中時有污染，可以調(diào)整清洗器能量檔位來對鍍膜件在鍍膜過程中的污染進(jìn)行清洗，使下一次鍍膜效果更好。

　　其他的如等離子刻蝕、活化和涂鍍等：由于等離子清洗處理的功能和用途如此之多，因此，光學(xué)、光電子、光通訊、電子、微電子、半導(dǎo)體、激光、芯片、珠寶、顯示、航天航空、生命科學(xué)、醫(yī)學(xué)、、生物、物理、化學(xué)等各方面的科研和生產(chǎn)都有其應(yīng)用之處。