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磁控濺射鍍膜設備濺射方式

繞鍍能力強

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。

主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設備在目前鍍膜行業中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業都會有使用到。我們平日生產的時候都是由機器生產，那么大家知道目前的磁控鍍膜設備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應濺射.另外，利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.

現在的直流濺射（也叫二級濺射）較少用到，異形工件鍍膜設備多少錢，原因是濺射氣壓較高，電壓較高，濺射速率小，膜層不穩定等缺點.

直流濺射發展后期，異形工件鍍膜設備，人們在其表面加上一定磁場，磁場束縛住自由電子后，以上缺點均有所改善，也是現階段廣泛應用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備

而后又有中頻濺射，異形工件鍍膜設備工作原理，提高了陰極發電速率，不易造成放電、靶材等現象.

而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射，不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密，附著力良好.

如果尋找本質區別是：直流濺射是氣體放電的前期，而射頻是后期，我們常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設備的區別就是電源的區別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對設備更加了解。

離子鍍膜機的實際應用

離子鍍膜機的應用范圍主要可以分為兩大類，一類為工具類產品的鍍膜，一類為裝飾鍍膜。對于前者的鍍膜，有著延長其使用壽命的作用，對于后者則更多的是表面裝飾。

工具類鍍膜以刀具為例，在其硬質合金打造的刀身表面進行離子鍍膜之后，其表面的硬度和自潤滑性會明顯得到提升，減少了在切削過程中的粘刀現象，也大幅度提升了刀具的使用壽命。這也是現在很多刀具廠家會采用離子鍍膜機的主要原因。

裝飾類鍍膜實際上是可以包括工具鍍膜的，原因在于類似刀具這類產品，異形工件鍍膜設備廠家，在經過鍍膜之后不僅性能和使用壽命得到了提升，其表面的光澤度也有了非常明顯的變化。特別是金屬類產品，在經過離子鍍膜機再次加工之后，往往其價值會得到進一步的提升，這就是為其表面美化的主要作用。

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