低電壓微弧氧化技術常用指南

微弧氧化技術特點

（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在1000至2000HV，高可達3000HV，可與硬質合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

（2）良好的耐磨損性能；

（3）反應在常溫下進行，操作方便，易于掌握。

（4）基體原位生長陶瓷膜，結合牢固，陶瓷膜致密均勻。微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

溫度對微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化電源

微弧氧化技術受哪些因素影響

1、時間對微弧氧化的影響微弧氧化時間一般控制在10～60min。氧化時間越長，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。

2、陰極材料陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。

3、后處理對微弧氧化的影響微弧氧化過后，工件可不經過任何處理直接使用，也可進行封閉，電泳，拋光等后續(xù)處理。

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