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影響離子鍍膜層質量的工藝參數

①基片偏壓.

離子鍍膜基片施加負偏壓后；各種離子和高能中性粒子流以較高的能量轟擊基片表面．基片負偏壓的提高，會使基片表面獲得更高的能量，可能形成偽擴散層，提高膜層與基體的附著力，還可以改變膜層的組織、結構和性能，如細化晶粒，圖2表明，隨著基片負偏壓的提高，膜層組織變細，但是，基片負偏壓的提高也會產生一些不利的影響，如反濺射作用的增加，使膜層表面受到刻蝕，使表面光潔程度降低，圖3表明了空心陰極離子鍍鉻時，基片負偏壓對鉻膜表面光澤度的影響，基片負偏壓的提高還會使沉積速率降低，使基片溫度升高，圖4表明了電弧離子鍍tin膜基片負偏壓對沉積速率的影響，因此，應根據不同的離子鍍方法、不同的膜層及使用要求選擇適當的基片負偏壓。

②鍍膜真空度和反應氣體分壓.

離子鍍膜真空度對膜層組織、性能的影響與真空蒸鍍時的影響規律相似，但反應氣體分壓對反應離子鍍鍍制化合物膜的成分、結構和性能有直接的影響，圖5是hcd離子鍍tin膜的硬度與氮氣分壓的關系，因此反應氣體的分壓應根據離子鍍方法，化合物膜層的成分、性質、使用要求以及設備來選擇

③基片溫度.

離子鍍膜基片溫度的高低直接影響著膜層的組織、結構和性能。一般情況下，溫度的升高有利于提高膜層與基片的附著力，有利于改善膜層的組織與性能。但是，溫度過高，則會使沉積速率降低，有時還會使膜層晶粒粗大，性能變壞；圖6中hcd離子鍍鉻膜顯微硬度受基片溫度影響的規律。另外，基片溫度的選擇還要受基片材料性質的限制，如鋼材的回火溫度等

④蒸發源功率．

蒸發源功率對蒸發速率有直接的影響，進而影響沉積速率，影響膜層的組織、性能，對反應沉積化合膜時蒸發源功率也將影響膜層的成分。

為了獲得所需性能的膜層，應綜合分析、考慮各種因素，迭擇鍍膜方法和確定合理的鍍膜工藝參數。

真空鍍膜技術的優點分析

真空鍍膜技術優點表現在哪里？真空鍍膜技術在塑料制品上的應用廣泛，真空鍍膜機廠表示，塑料具有易成型，成本低，質量輕，不腐蝕等特點，塑料制品應用廣泛，但因其缺點制約了擴大應用。通過真空鍍膜技術的應用，使塑料表面金屬化，將有機材料和無機材料結合起來，大大提高了它的物理、化學性能。真空鍍膜技術優點主要表現在以下幾個方面：

1、使塑料表面有導電性；

2、容易清洗，不吸塵。

3、改善美觀，表面光滑，金屬光澤彩色化，裝飾性大大提高；

4、減少吸水率，鍍膜次數愈多，孔愈少，吸水率降低，制品不易變形，提高耐熱性；

5、改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，通過真空鍍膜技術，硬度及耐磨性大大增加；

6、可以提高耐候性，一般塑料在室外會老化的非常快，主要原因是紫外線照射所致，而鍍鋁后，鋁對紫外線反射強，所以耐候性大大提高。

真空鍍膜機鍍膜的塑料材料如何挑選

真空鍍膜機技術的不斷發展，使很多原來不能鍍膜的材料也得以實現鍍膜，但仍有一部分材料并未研發出解決方案，但我非常期待，因為科技是無窮的，很多以前不敢想象的技術，現在都實現了，將來必須會出現新的一頁。

對于真空鍍膜機的技術，塑料也是可以鍍膜的了，這是一種技術性的發展，但不是所有的塑料都可以用真空鍍膜機進行鍍膜的，因為塑料本身所帶有的某些特性是目前的鍍膜技術仍未可解決的。

那么什么樣的塑料才能用真空鍍膜機鍍膜呢，歸納起來，可以分三點來挑選。

首先，塑料本身和所鍍膜層之間要有一定的親和力，只有膜層與工件緊密的結合在一起，才能不易脫落，壽命長久，有些塑料沒辦法和臘層很好的結合在一起，研究人員發現在塑料表面先涂上一層便于膜層緊密結合的涂料，這樣就解決了附著力的問題，但這種涂料在與膜層能加強結合外，現時也要和塑料加強結合，同時滿足這兩種條件的涂料也不是說那么容易找到，只有一部分的塑料可以找到相應的涂料，但有部分塑料始終還未找到，而這些塑料就不能用真空鍍膜機鍍膜了。

其次，塑料本身必定會含有一些揮發性的雜質，隨著溫度的上漲，會揮發逸出，但作為可以鍍膜的工件，所能忍受的揮發物質是有限的，所以在挑選塑料材料作真空鍍膜時，要選擇放氣量少的，這樣對于真空鍍膜機運作時的真空度影響也可以采取措施使其受到控制，如果大量的話就會控制不到而使真空度下降，影響鍍膜質量。

后就是塑料受熱的穩定性，塑料受到廣泛使用就是因為其可以在加溫的狀態下按照設計者的意愿塑造出想要的形象，這就是受熱變形，但在真空鍍膜機的鍍膜時的環境下，必定產生一定的溫度，

如果塑料受熱不穩定就會變形，即使鍍的膜層再好，工件已經變形，又有什么用呢，所以對于塑料材料的鍍膜，都會使用產生的熱量低于工件熔點的真空鍍膜機，但有些塑料熔點實在在低的，目前的技術仍未解決，所以這些塑料都不適合真空鍍膜機的鍍膜。

離子真空鍍膜機鍍膜產品表面防腐方法是怎樣的呢？

離子真空鍍膜機鍍膜產品表面大多采用過渡族金屬（如Ti、Zr、Cr）或其合金的氮、碳、氧的化合物，還有用非晶碳（類金剛石）膜的。一般來說，這些化合物本身的化學惰性比較高，耐腐蝕性能很好。但是一些裝飾鍍層產品包括表件、手機殼、高爾夫球頭等，卻未能通過人工汗腐蝕試驗或中性鹽霧腐蝕試驗。裝飾鍍層產品的腐蝕不單是鍍層本身的耐蝕性問題，還包括裝飾鍍層 基體的系統腐蝕問題。許多研究工作都表明離子鍍裝飾鍍層自身耐蝕性好，它鍍在金屬（如不銹鋼）基體上，對基體整體均勻抗腐蝕能力有提高，但裝飾鍍層很薄，不可避免地存在表面缺陷﹐如微裂紋、微孔、孔、柱狀晶界、電弧沉積的宏觀顆粒等。腐蝕介質可通過這些缺陷所形成的通道，穿過鍍層到達基體。